[发明专利]一种基于金属覆盖层的负折射人工材料

权利要求书

1.一种制作基于金属覆盖层的负折射人工材料的方法，其特征包括以下步骤：

(1)选择石英基片，并将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层SiO₂膜；

(2)在SiO₂膜表面蒸镀一层铬膜，然后在铬膜上均匀涂覆一层光刻胶；

(3)采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结构；

(4)采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；

(5)采用干法腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在SiO₂膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；

(6)采用真空蒸镀技术，在SiO₂光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，一种基于金属覆盖层的负折射人工材料制作完成；

其中所述SiO₂膜的厚度为70纳米到80纳米；

所述介质光栅结构的周期为255纳米到265纳米，占空比为1.35∶1.2～1.45∶1.2；所述金属层的蒸镀厚度h为28纳米至32纳米。

2.根据权利要求1所述的一种制作基于金属覆盖层的负折射人工材料的方法，其特征在于：所述的步骤(2)中的铬膜厚度为25纳米至30纳米。

3.根据权利要求1所述的一种制作基于金属覆盖层的负折射人工材料的方法，其特征在于：所述步骤(2)中的光刻胶为用于电子束刻蚀的PMMA光刻胶，其厚度为40纳米至60纳米。

4.根据权利要求1所述的一种制作基于金属覆盖层的负折射人工材料的方法，其特征在于：所述步骤(5)中的干法腐蚀技术为等离子辅助刻蚀技术，刻蚀气体为CF₃。

5.根据权利要求1所述的一种制作基于金属覆盖层的负折射人工材料的方法，其特征在于：所述步骤(6)中的金属为同一种金属。