[发明专利]光学临近修正参数采集方法有效
| 申请号： | 200810203537.2 | 申请日： | 2008-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN101738850A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 王谨恒 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学临近修正参数采集方法，包括步骤：对包括非直角弯角的测试线条进行光学临近修正，形成具有辅助线条的待曝光图形；通过实际曝光或仿真的方法获取待曝光图形曝光后所形成的成型线条；通过对比成型线条与测试线条的差异，获取辅助线条在所述测试线条在所述弯角处是否出现冗余和/或缺漏。与现有技术相比，本发明在曝光测试线条上设置包含有非直角的转角，通过对比用实际曝光或仿真的方法所形成的上述测试线条的成型线条与测试线条自身的差异，可以获取辅助线条的冗余和/或缺漏，以及冗余和/或缺漏出现的位置等临近数据，进而可以利用这些临近数据修正和完善具有非直角转角线条的OPC模型。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 临近 修正 参数 采集 方法 | ||
【主权项】：
一种光学临近修正参数采集方法，其特征在于，包括步骤：对包括非直角弯角的测试线条进行光学临近修正，形成具有辅助线条的待曝光图形；通过实际曝光或仿真的方法获取待曝光图形曝光后所形成的成型线条；通过对比成型线条与测试线条的差异，获取辅助线条在所述测试线条在所述弯角处是否出现冗余和/或缺漏。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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