[发明专利]光学临近修正参数采集方法

权利要求书

1.一种光学临近修正参数采集方法，其特征在于，包括步骤：

对包括非直角弯角的测试线条进行光学临近修正，形成具有辅助线条的 待曝光图形，所述非直角弯角为连贯的测试线条内的夹角，包括15度、30度、 45度、60度、75度、105度、120度、135度、150度和/或165度，所述的 测试线条的宽度为100纳米、65纳米、45纳米、32纳米或22纳米；

通过实际曝光或仿真的方法获取待曝光图形曝光后所形成的成型线条；

通过对比成型线条与测试线条的差异，获取辅助线条在所述测试线条在 单个角度的弯角或多个角度的弯角处是否出现冗余和/或缺漏。

2.如权利要求1所述的光学临近修正参数采集方法，其特征在于：还包 括获取所述辅助线条的冗余和/或缺漏的相应的长度。

3.如权利要求1所述的光学临近修正参数采集方法，其特征在于：还包 括获取所述辅助线条的冗余和/或缺漏相应出现的位置。

4.如权利要求1所述的光学临近修正参数采集方法，其特征在于：所述 测试线条有一组以上，每组内包括一条以上的测试线条，各组测试线条的宽 度相同而相应的测试线条之间的间隔距离不同。

5.如权利要求4所述的光学临近修正参数采集方法，其特征在于：所述 的宽度与间隔距离的比例为1∶1至1∶10。

6.如权利要求1所述的光学临近修正参数采集方法，其特征在于：所述 测试线条有一组以上，每组内包括一条以上的测试线条，各组测试线条的宽 度与相应的测试线条之间的间隔距离的比例相同。

7.如权利要求6所述的光学临近修正参数采集方法，其特征在于：所述 的宽度与间隔距离的比例为1∶1。