[发明专利]三维存储器集成电路无效
| 申请号: | 200810183684.8 | 申请日: | 2004-11-05 |
| 公开(公告)号: | CN101694841A | 公开(公告)日: | 2010-04-14 |
| 发明(设计)人: | 张国飙 | 申请(专利权)人: | 张国飙 |
| 主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L27/105;H01L23/522 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 610051 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | 三维存储器集成电路本发明提供了一种含有半3D-M层的三维存储器系统芯片(3DM-SoC)。它充分利用了三维存储器(3D-M)可堆叠于衬底电路上的特点,将SoC芯片中嵌入式存储器上的闲置互连线层转化为3D-M。该转化过程以极低的额外工艺成本,在基本不增加芯片面积的前提下能极大地增加SoC的存储容量,提高其性能。本发明还提供了一种具有大3D-M基本阵列的3DM-SoC,它可以避免因3D-M与系统的集成而需要对独立衬底电路块的版图进行改动。 | ||
| 搜索关键词: | 三维 存储器 集成电路 | ||
【主权项】:
一种三维存储器集成电路,其特征在于含有:第一互连线层(IL3)和高于并紧邻于第一互连线层的第二互连线层(IL4);在该第一和第二互连线层之间具有至少两种连接方式:1)至少一通道孔(38),该通道孔对所述第一和第二互连线层提供双向电连接;2)至少一3D-M膜(36),该3D-M膜为所述第一和第二互连线层提供单向电连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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