[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效
申请号: | 200810144034.2 | 申请日: | 2008-07-25 |
公开(公告)号: | CN101354513A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 青田雅明;石田聪 | 申请(专利权)人: | 爱普生映像元器件有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/84 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于在采用相对透明基板处于基本水平方向的电场控制液晶的液晶显示装置中,抑制电极之间的接触电阻的增加,并抑制合格率的降低。形成通过形成于覆盖像素晶体管(TR)的钝化膜(17)和平坦化膜(18)的接触孔(H8,H9)、与漏电极(16D)连接的第1蚀刻阻挡电极(20P)和与引出线(16C)连接的共用电极(20)。此后,形成覆盖这些电极(20P,20)的绝缘膜(21),有选择地对绝缘膜(21)进行干式蚀刻。然后,通过湿式蚀刻而去除第1蚀刻阻挡电极(20P)上的残留堆积物(DP2)。然后,形成与第1蚀刻阻挡电极(20P)连接、在绝缘膜(21)上延伸的像素电极(22)。 | ||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种液晶显示装置的制造方法,其特征在于,包括:在基板上形成具有漏电极的开关元件的步骤;形成覆盖上述漏电极的第1绝缘膜的步骤;在上述第1绝缘膜形成使上述漏电极露出的开口部的步骤;覆盖上述开口部、形成与上述漏电极连接的第1蚀刻阻挡电极,同时在上述第1绝缘膜上形成共用电极的步骤;覆盖上述第1蚀刻阻挡电极和上述共用电极,形成第2绝缘膜的步骤;第1蚀刻步骤,其中,有选择地对上述第1蚀刻阻挡电极上的上述第2绝缘膜进行蚀刻;第2蚀刻步骤,其中,在上述第1蚀刻步骤之后,通过蚀刻来去除上述第1蚀刻阻挡电极上的残留物;以及在上述第2蚀刻步骤之后,形成像素电极的步骤,该像素电极与上述第1蚀刻阻挡电极连接,在上述第2绝缘膜上延伸,与上述共用电极对向。
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