[发明专利]制造液晶显示装置的方法有效
| 申请号： | 200810142858.6 | 申请日： | 2008-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101393897A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 朴星一;朴大林 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/84 | 分类号： | H01L21/84;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 辉;孙海龙 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 制造液晶显示装置的方法。该方法包括：利用第一掩模在基板上形成栅极、选通焊盘和选通线；在包括栅极、选通线和选通焊盘的基板的上方顺次形成栅绝缘膜、有源层、欧姆接触层和导电层；通过第二掩模形成有源图案、欧姆接触图案、源极/漏极、数据线和数据焊盘；通过第三掩模在栅绝缘膜上形成像素电极，该像素电极与漏极接触；利用源极/漏极作为蚀刻掩模蚀刻该欧姆接触图案来露出该有源图案；在包括源极/漏极、数据线和数据焊盘的基板上形成钝化膜；通过第四掩模蚀刻钝化膜和/或栅绝缘膜，以形成用于露出该选通焊盘的第一接触孔和用于露出该数据焊盘的第二接触孔；以及利用第五掩模来在该基板上形成具有多个孔的公共电极。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 液晶 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造液晶显示装置的方法，该方法包括：利用第一掩模在基板上形成栅极、选通焊盘、选通线；在包括所述栅极和选通焊盘的基板的上方顺次形成栅绝缘膜、有源层、欧姆接触层和导电层；利用第二掩模形成有源图案、欧姆接触图案、源极/漏极、数据线和数据焊盘；利用第三掩模在像素区域中的所述栅绝缘膜上形成像素电极，该像素电极与所述漏极接触；使用所述源极/漏极作为蚀刻掩模，通过蚀刻所述欧姆接触图案来露出所述有源图案；在包括所述源极/漏极、数据线和数据焊盘的基板上形成钝化膜；利用第四掩模蚀刻所述钝化膜和/或栅绝缘膜，以形成用于露出所述选通焊盘的第一接触孔和用于露出所述数据焊盘的第二接触孔；以及利用第五掩模来在所述基板上形成具有多个孔的公共电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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