[发明专利]制造液晶显示装置的方法

说明书

技术领域

本发明涉及制造液晶显示装置的方法，更具体地说，涉及制造边缘场开关模式(fringe field switching mode)液晶显示装置的方法。

背景技术

为了改进普通IPS(共平面开关)模式液晶显示装置的低孔径比和低透射率，设计了具有高孔径比和高透射率的边缘场开关模式的液晶显示装置。

图1例示了常规边缘场开关模式的液晶显示装置的下基板的示意性剖视图。

如图1所示，常规边缘场开关模式的液晶显示装置的下基板包括：形成在绝缘基板1上具有栅极、半导体层、源极和漏极的薄膜晶体管(TFT，未示出)、连接至该TFT的漏极(未示出)的透明像素电极3、形成在该TFT和像素电极3上的钝化膜5，以及以与像素电极3交叠的方式形成在钝化膜5上的透明公共电极7。

上基板(未示出)与下基板1相对并相对于下基板以预定间隙进行装配。将液晶层(未示出)插入到上基板(未示出)和下基板1之间。因为在下基板1和上基板(未示出)之间的所谓“单元间隙”被形成为大于公共电极7和像素电极3之间的间隙，所以在公共电极7和像素电极3之间形成抛物线形状的边缘场。

然而，在制造上述常规边缘场开关模式的液晶显示装置时，要执行用于形成TFT的六次掩模工序(包括形成栅极的掩模工序、形成半导体层的掩模工序、形成源极/漏极的掩模工序、对钝化膜进行构图的掩模工序、形成公共电极的掩模工序以及形成像素电极的掩模工序)。为此，需要开发一种可以减少掩模工序的用于制造边缘场开关模式的液晶显示装置的新方法。

发明内容

因此，本发明涉及制造液晶显示装置的方法，其基本上避免了由于现有技术的局限性和缺点引起的一个或更多个问题。

本发明的目的是提供一种可以减少掩模工序的制造液晶显示装置的方法。

本发明的其它优点、目的以及特征将部分地在下面的说明中加以阐述，并且对于本领域的技术人员而言在考查以下内容后将部分地显见，或者可以从对本发明的实践来获知。通过在文字说明及其权利要求以及附图中具体指出的结构，可以实现并获得本发明的这些目的和其它优点。

为实现这些目的和其他优点并且根据本发明的用途，如在此所具体实现和广泛描述的，一种制造液晶显示装置的方法包括：利用第一掩模在基板上形成栅极、选通焊盘和选通线；在包括栅极、选通线和选通焊盘的基板的上方顺次形成栅绝缘膜、有源层、欧姆接触层和导电层；利用第二掩模形成有源图案、欧姆接触图案、源极/漏极、数据线和数据焊盘；利用第三掩模在该栅绝缘膜上形成像素电极，该像素电极与该漏极接触；使用源极/漏极作为蚀刻掩模，通过蚀刻该欧姆接触图案来露出该有源图案；在包括该源极/漏极、数据线和数据焊盘的基板上形成钝化膜；利用第四掩模蚀刻钝化膜和/或栅绝缘膜，以形成用于露出该选通焊盘的第一接触孔和用于露出该数据焊盘的第二接触孔；以及利用第五掩模来在该基板上形成具有多个孔的公共电极。

利用第二掩模形成有源图案、欧姆接触图案、源极/漏极、数据线和数据焊盘的步骤包括：在该导电层上形成光刻胶，并且使用被构造为衍射曝光掩模的第二掩模执行光刻处理以形成第一光刻胶图案，该第一光刻胶图案具有位于与该栅极相对应的区域的第一部分和位于与要形成该源极/漏极的区域相对应的区域的第二部分，并且该第一光刻胶图案的第一部分具有第一厚度，而该第一光刻胶图案的第二部分具有大于该第一厚度的第二厚度；利用该第一光刻胶图案作为蚀刻掩模执行蚀刻处理，来形成该有源图案、该欧姆接触图案、导电图案、该数据线和该数据焊盘；通过灰化具有第一厚度的第一光刻胶图案的第一部分来形成第二光刻胶图案，以使得露出该导电图案；以及利用第二光刻胶图案作为蚀刻掩模对该导电图案进行构图来形成该源极/漏极。

该公共电极可以被形成为覆盖由该数据线和该选通线限定的多个像素区域，并且该公共电极的多个孔可以仅形成在形成有该像素电极的区域中。

应当明白，本发明的以上一般性描述和以下详细描述都是示例性和说明性的，旨在提供对要求保护的本发明的进一步说明。

附图说明

附图被包括进来以提供对本发明的进一步的理解并被并入且构成本申请的一部分，示出了本发明的实施方式，并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：

图1为例示了常规边缘场开关模式液晶显示装置的下基板的示意性剖视图；

图2A为根据本发明的一个示例性实施方式的边缘场开关模式液晶显示装置的平面图；

图2B为沿图2A的线I-I’的剖视图；