[发明专利]制造液晶显示装置的方法

权利要求书

1.一种制造液晶显示装置的方法，该方法包括：

利用第一掩模在基板上形成栅极、选通焊盘和选通线；

在包括所述栅极和选通焊盘的基板的上方顺次形成栅绝缘膜、有源层、欧姆接触层和导电层；

在所述导电层上形成光刻胶，并且使用被构造为衍射曝光掩模的第二掩模执行光刻处理以形成第一光刻胶图案，该第一光刻胶图案具有位于与所述栅极相对应的区域的第一部分和位于与要形成所述源极/漏极的区域相对应的区域的第二部分，并且该第一光刻胶图案的第一部分具有第一厚度，而该第一光刻胶图案的第二部分具有大于该第一厚度的第二厚度；

利用该第一光刻胶图案作为蚀刻掩模执行蚀刻处理，来形成有源图案、欧姆接触图案、导电图案、数据线和数据焊盘；

通过灰化具有第一厚度的第一光刻胶图案的所述第一部分来形成第二光刻胶图案，使得露出所述导电图案；

利用所述第二光刻胶图案作为蚀刻掩模对所述导电图案进行构图来形成所述源极/漏极；

利用第三掩模在像素区域中的所述栅绝缘膜上形成像素电极，该像素电极与所述漏极接触；

在形成所述像素电极之后，使用所述源极/漏极作为蚀刻掩模，通过蚀刻所述欧姆接触图案来露出所述有源图案；

在包括所述源极/漏极、数据线和数据焊盘的基板上形成钝化膜；

利用第四掩模蚀刻所述钝化膜和/或栅绝缘膜，以形成用于露出所述选通焊盘的第一接触孔和用于露出所述数据焊盘的第二接触孔；以及

利用第五掩模来在所述基板上形成具有多个孔的公共电极。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述公共电极被形成为覆盖由所述数据线和所述选通线限定的多个像素区域。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述公共电极的多个孔仅形成在形成有所述像素电极的区域中。

4.如权利要求1所述的方法，该方法还包括，

当形成所述公共电极时，形成通过所述第一接触孔与所述选通焊盘接触的第一透明导电层，以及通过所述第二接触孔与所述数据焊盘接触的第二透明导电层。