[发明专利]耐高温高压萃取池无效

专利信息
申请号: 200810119516.2 申请日: 2008-09-02
公开(公告)号: CN101468261A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 叶建平;顾爱平;裴晓华;史俊稳 申请(专利权)人: 北京吉天仪器有限公司
主分类号: B01D11/00 分类号: B01D11/00
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 代理人: 吴 杰
地址: 100016北京市朝阳区酒仙*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种耐高温高压萃取池,包括压帽、密封垫、萃取池体、定位密封环,萃取池体内设有流体通道,定位密封环内设有流体通道,所述定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台,所述萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台,所述密封垫的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽和下凹槽,所述密封环凸台与上凹槽接触密封,所述池体凸台与下凹槽接触密封;在密封垫和定位密封环的外圆周设有固定圈;压帽上部与定位密封环相固定,下部与萃取池体相连。本发明耐高温高压萃取池结构简单、密封可靠性高。
搜索关键词: 耐高温 高压 萃取
【主权项】:
1、一种耐高温高压萃取池,包括压帽(1)、密封垫(2)、萃取池体(3),萃取池体(3)内设有流体通道(31),其特征在于:还包括定位密封环(4),定位密封环(4)内设有流体通道(41),所述定位密封环(4)的下端面沿圆周设有密封环凸台(5),所述萃取池体(3)的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台(6),所述密封垫(2)的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽(7)和下凹槽(8),所述密封环凸台(5)与上凹槽(7)接触密封,所述池体凸台(6)与下凹槽(8)接触密封;在密封垫(2)和定位密封环(4)的外圆周设有固定圈(9);压帽(1)上部与定位密封环(4)相固定,下部与萃取池体(3)相连。
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