[发明专利]耐高温高压萃取池无效
申请号: | 200810119516.2 | 申请日: | 2008-09-02 |
公开(公告)号: | CN101468261A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 叶建平;顾爱平;裴晓华;史俊稳 | 申请(专利权)人: | 北京吉天仪器有限公司 |
主分类号: | B01D11/00 | 分类号: | B01D11/00 |
代理公司: | 北京双收知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吴 杰 |
地址: | 100016北京市朝阳区酒仙*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 耐高温 高压 萃取 | ||
1.一种耐高温高压萃取池,包括压帽(1)、密封垫(2)、萃取池体(3)、定位密封环(4),萃取池体(3)内设有流体通道(31),定位密封环(4)内设有流体通道(41),所述定位密封环(4)的下端面沿圆周设有密封环凸台(5),所述萃取池体(3)的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台(6),压帽(1)上部与定位密封环(4)相固定,下部与萃取池体(3)相连,其特征在于:所述密封垫(2)的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽(7)和下凹槽(8),所述密封环凸台(5)与上凹槽(7)接触密封,所述池体凸台(6)与下凹槽(8)接触密封;在密封垫(2)和定位密封环(4)的外圆周设有固定圈(9)。
2.根据权利要求1所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述萃取池体(3)的上、下端面在池体凸台(6)的外部沿圆周分别设有池体导向凸台(10),在密封垫(2)下部与固定圈(9)下部之间设有与池体导向凸台(10)相配合的池体导向槽(11);所述池体导向凸台(10)比池体凸台(6)高。
3.根据权利要求2所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述定位密封环(4)的下端面在密封环凸台(5)的外部沿圆周设有密封环导向凸台(12),在密封垫(2)上部与固定圈(9)上部之间设有与密封环导向凸台(12)相配合的密封环导向槽(13);所述密封环导向凸台(12)比密封环凸台(5)高。
4.根据权利要求3所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的纵截面为V形,纵截面为V形的上凹槽(71)具有第一上密封面(14)和第二上密封面(15),纵截面为V形的下凹槽(81)具有第一下密封面(16)和第二下密封面(17);所述池体凸台(6)的纵截面为矩形,纵截面为矩形的池体凸台(6)具有第一池体密封面(18)和第二池体密封面(19),第一池体密封面(18)与第一下密封面(16)接触密封,第二池体密封面(19)与第二下密封面(17)接触密封;所述密封环凸台(5)的纵截面为矩形,纵截面为矩形的密封环凸台(5)具有第一密封环密封面(20)和第二密封环密封面(21),第一密封环密封面(20)与第一上密封面(14)接触密封,第二密封环密封面(21)与第二上密封面(15)接触密封。
5.根据权利要求3所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的纵截面为等腰梯形,纵截面为等腰梯形的上凹槽(72)具有第三上密封面(22)和第四上密封面(23),纵截面为等腰梯形的下凹槽(82)具有第三下密封面(24)和第四下密封面(25);所述池体凸台(6)的纵截面为矩形,纵截面为矩形的池体凸台(6)具有第一池体密封面(18)和第二池体密封面(19),第一池体密封面(18)与第三下密封面(24)接触密封,第二池体密封面(19)与第四下密封面(25)接触密封;所述密封环凸台(5)的纵截面为矩形,纵截面为矩形的密封环凸台(5)具有第一密封环密封面(20)和第二密封环密封面(21),第一密封环密封面(20)与第三上密封面(22)接触密封,第二密封环密封面(21)与第四上密封面(23)接触密封。
6.根据权利要求3所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述上凹槽(7)和下凹槽(8)的纵截面设为V形,V形尖角处设为矩形。
7.根据权利要求3或6所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述池体凸台(6)的纵截面设为矩形,矩形的左上角和右上角设为圆角;所述密封环凸台(5)的纵截面设为矩形,矩形的左下角和右下角设为圆角。
8.根据权利要求4或5所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述定位密封环(4)上设有O型密封圈(29)。
9.根据权利要求8所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述定位密封环(4)上设有固定螺母(26),固定螺母(26)与固定圈(9)上部通过螺纹相连。
10.根据权利要求9所述的耐高温高压萃取池,其特征在于:所述定位密封环(4)上的流体通道(41)的下部设有过滤片(27),过滤片(27)位于密封垫(2)的顶部。
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