[发明专利]耐高温高压萃取池

说明书

技术领域

本发明涉及一种萃取池，尤其涉及一种耐高温高压萃取池。

背景技术

专利号为U.S.Pat.No.5647976的美国专利公开了一种耐高温高压萃取池，该萃取池主要由萃取池体、密封件和端帽组成，萃取池体的两端具有与密封件相密封的凸台，端帽上也具有与密封件相密封的凸台，该结构的缺陷是萃取池体上的凸台和端帽上的凸台与密封件之间的密封不是很可靠，此外，由于装卸或清洗萃取池时容易损坏凸台，凸台被损坏后就不能与密封件达到密封效果，从而导致萃取液泄漏，萃取池不可用。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种结构简单、密封可靠性高的耐高温高压萃取池。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种耐高温高压萃取池，包括压帽、密封垫、萃取池体、定位密封环，萃取池体内设有流体通道，定位密封环内设有流体通道，所述定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台，所述萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台，所述密封垫的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽和下凹槽，所述密封环凸台与上凹槽接触密封，所述池体凸台与下凹槽接触密封；在密封垫和定位密封环的外圆周设有固定圈；压帽上部与定位密封环相固定，下部与萃取池体相连。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述萃取池体的上、下端面在池体凸台的外部沿圆周分别设有池体导向凸台，在密封垫下部与固定圈下部之间设有与池体导向凸台相配合的池体导向槽，所述池体导向凸台比池体凸台高。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环的下端面在密封环凸台的外部沿圆周设有密封环导向凸台，在密封垫上部与固定圈上部之间设有与密封环导向凸台相配合的池体导向槽，所述密封环导向凸台比密封环凸台高。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的纵截面为V形，纵截面为V形的上凹槽具有第一上密封面和第二上密封面，纵截面为V形的下凹槽具有第一下密封面和第二下密封面；所述池体凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的池体凸台具有第一池体密封面和第二池体密封面，第一池体密封面与第一下密封面接触密封，第二池体密封面与第二下密封面接触密封；所述密封环凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台具有第一密封环密封面和第二密封环密封面，第一密封环密封面与第一上密封面接触密封，第二密封环密封面与第二上密封面接触密封。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的纵截面为等腰梯形，纵截面为等腰梯形的上凹槽具有第三上密封面和第四上密封面，纵截面为等腰梯形的下凹槽具有第三下密封面和第四下密封面；所述池体凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的池体凸台具有第一池体密封面和第二池体密封面，第一池体密封面与第三下密封面接触密封，第二池体密封面与第四下密封面接触密封；所述密封环凸台的纵截面为矩形，纵截面为矩形的密封环凸台具有第一密封环密封面和第二密封环密封面，第一密封环密封面与第三上密封面接触密封，第二密封环密封面与第四上密封面接触密封。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述上凹槽和下凹槽的纵截面设为V形，V形尖角处设为矩形。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述池体凸台的纵截面设为矩形，矩形的左上角和右上角设为圆角；所述密封环凸台的纵截面设为矩形，矩形的左下角和右下角设为圆角。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环上设有0型密封圈。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环上设有固定螺母，固定螺母与固定圈上部通过螺纹相连。

本发明耐高温高压萃取池，其中所述定位密封环上的流体通道的下部设有过滤片，过滤片位于密封垫的顶部。

本发明耐高温高压萃取池结构简单，在密封垫的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽和下凹槽，定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台，萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台，密封环凸台与上凹槽接触密封，池体凸台与下凹槽接触密封，密封可靠性高。

附图说明

图1为本发明耐高温高压萃取池的结构示意图；

图2为图1中A处放大图；

图3为密封定位环的结构示意图；

图4为萃取池体的结构示意图；

图5为密封垫的第一种实施例的结构示意图；

图6为图4中B处放大图；

图7为第一种实施例的密封垫与萃取池体和定位密封环连接的结构示意图；

图8为密封垫的第二种实施例的结构示意图；

图9为密封垫的第三种实施例的结构示意图。

具体实施方式