[发明专利]掩膜板清洁系统及清洁方法有效
| 申请号： | 200810116880.3 | 申请日： | 2008-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN101628289A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 黎午升;鲁成祝;金基用;李斗熙 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩膜板进行清洁，其包括：清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口；开关装置，用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号；清洁装置，位于所述清洁室内，与所述开关装置电连接，根据所述控制信号开启或关闭，用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。本发明还公开了一种掩膜板的清洁方法。本发明能够使掩膜板从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中进行在线实时的清洁，保障了基板的质量，进一步提高了产品的良品率和生产效率，节约了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩膜板进行清洁，其特征在于包括：清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口；开关装置，用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号；清洁装置，位于所述清洁室内，与所述开关装置电连接，根据所述控制信号开启或关闭，用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。
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