[发明专利]掩膜板清洁系统及清洁方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种掩膜板清洁系统及清洁方法，尤其是涉及一种在掩膜板从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中，在掩膜板进行曝光之前对掩膜板进行在线自动清洁的掩膜板清洁系统及清洁方法。 

背景技术

在半导体制造尤其是液晶面板生产过程中，阵列工序的曝光工艺中需要采用掩膜板(Mask)对基板进行曝光。 

掩膜板需要从掩膜板库传递到掩膜板平台进行曝光，在这个传递过程中很容易受到微粒(Particle)的污染，其中掩膜板的上表面也就是空白面(Blank Face)的微粒污染，比下表面也就是薄膜面(Pellicle Face)的污染更影响曝光工艺的质量，因为附着在薄膜面的微粒成像时在焦平面以下，一般不会影响曝光图案(Pattern)。 

若将受微粒污染的掩膜板用于曝光工艺，将造成阵列(Array)基板上产生重复缺陷(Repeat Defect)，而这种重复缺陷在曝光(PHOTO)的自动光学检测(Automatic Optic Inspection，AOI)中往往并不能被发现，直到阵列测试(Array Test)进行电学测试时才能发现，但此时大量基板(Panel)已经受损，给生产造成重大损失。 

目前在生产制造时，采取的措施是将掩膜板用于生产曝光前进行人工检查，若发现掩膜板受微粒污染，则只能用人工方法利用气枪(Air gun)进行清洁(Clean)。 

发明内容

本发明的主要目的是克服现有技术中没有掩膜板自行清洁装置的缺陷，而提供一种掩膜板清洁系统，使其在掩膜板从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中进行在线实时的清洁，保障基板的质量，进一步提高了产品的良品率和生产效率，节约成本。 

本发明另一目的是提供一种掩膜板清洁系统，使其经过合理的时序控制，实现封闭环境中清洁掩膜板，不污染外部设备。 

本发明还一目的是克服现有的掩膜板清洁方法不能进行自动清洁和防止掩膜板传递过程中被污染的缺陷，提供一种掩膜板清洁方法，节约经济成本和时间成本。 

为实现上述目的，本发明提供了一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩膜板进行清洁，其包括：清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口；开关装置，用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号；清洁装置，位于所述清洁室内，与所述开关装置电连接，根据所述控制信号开启或关闭，用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁； 

其中，所述开关装置包括：第一红外线传感机构，用于在检测到掩膜板经过时，输出电平信号；第一驱动机构，与所述第一红外线传感机构电连接，用于根据接收到的所述电平信号，产生控制所述清洁装置的开合的控制信号；第二红外线传感机构，用于在检测到掩膜板经过时，输出电平信号；第三红外线传感机构，用于在检测到掩膜板经过时，输出电平信号；第二驱动机构，与所述第一驱动机构电连接，且与所述第二红外线传感机构和所述第三红外线传感机构分别电连接，用于在所述掩膜板行进在第一方向时根据第二红外线传感机构输出的电平信号启动第一驱动机构，并根据第三红外线传感机构输出的电平信号关闭第一驱动机构，还用于在所述掩膜板行进在与所述第一方向相反的第二方向时控制所述第一驱动机构处于非工作状态；其中，所述第一方向为从掩膜板库到掩膜板平台的传递方向。 

为实现上述目的，本发明还提供了一种掩膜板清洁方法，其包括如下步骤： 

步骤1、掩膜板从清洁室开口进入清洁室内； 

步骤2、开关装置检测所述掩膜板的经过，产生控制信号； 

步骤3、清洁装置根据所述控制信号，对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。 

为实现上述目的，本发明还提供了一种掩膜板清洁方法，其包括如下步 骤： 

步骤100、掩膜板经过第四红外线传感机构时，输出相应电平信号给第三驱动机构，该第三驱动机构根据该电平信号开启第一门体； 

步骤101、掩膜板经过第二红外线传感机构时，输出相应的电平信号给第二驱动机构，所述第二驱动机构根据该电平信号，启动所述第一驱动机构； 

步骤102、掩膜板从掩膜板库一侧的清洁室开口进入清洁室内； 

步骤103、掩膜板经过第五红外线传感机构时，输出相应电平信号给第三驱动机构，该第三驱动机构根据该电平信号闭合第一门体； 

步骤104、掩膜板经过第一红外线传感机构时，该第一红外线传感机构输出相应的电平信号给第一驱动机构，所述第一驱动机构收到所述电平信号后，产生控制信号启动所述清洁部清洁装置；