[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810109322.4 申请日: 2008-05-28
公开(公告)号: CN101315926A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 松井聪;栗田洋一郎 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L25/00 分类号: H01L25/00;H01L23/00;H01L21/50
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陆锦华;黄启行
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 目的在于提供一种即使当使用具有贯通电极的半导体芯片时,也可改善结合的可靠性和产品合格率的半导体器件,本发明的半导体器件具有:基板;叠层,设置在基板上,且由多个叠置的半导体芯片(第一半导体芯片和第二半导体芯片)组成,每个半导体芯片都具有贯通电极,同时在半导体芯片之间设置连接至贯通电极的凸块;以及加强芯片(半导体芯片),设置在叠层上,具体是在与基板一侧表面相对的叠层表面上,或在基板和叠层之间,其中加强芯片的厚度比多个半导体芯片中最厚的半导体芯片大。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:基板;叠层,设置在所述基板上,且由多个叠置的半导体芯片组成,所述多个半导体芯片的每一个都具有贯通电极,同时在所述半导体芯片之间设置连接至所述贯通电极的凸块;和加强芯片,提供在所述叠层上,具体是在所述叠层的与基板一侧表面相对的表面上,或在所述基板和所述叠层之间,其中所述加强芯片的厚度比所述多个半导体芯片中最厚的半导体芯片大。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩益禧电子股份有限公司,未经恩益禧电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810109322.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top