[发明专利]高密度基板的结构与制法有效

专利信息
申请号: 200810108556.7 申请日: 2008-05-27
公开(公告)号: CN101594750A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 李孟翰;蓝蔚文;庄景名;尚希贤 申请(专利权)人: 南亚电路板股份有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K1/11
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 吴小瑛
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种高密度基板及其制作方法,制作方法包括以下步骤:提供一双面铜箔基板,其具有一上表面铜箔和一下表面铜箔;于该下表面铜箔形成一底垫片,该底垫片设置于一通孔的预定位置;以激光钻孔形成该通孔,该通孔穿过该上表面铜箔与该基板,但不穿透该底垫片;于该通孔中顺应地形成一晶种层;以及于该晶种层上电镀一金属以形成一导通孔。
搜索关键词: 高密度 结构 制法
【主权项】:
1.一种高密度基板的制作方法,包括下列步骤:提供一双面铜箔基板,其具有一上表面铜箔与一下表面铜箔;于该下表面铜箔形成一底垫片,该底垫片设置于一通孔的预定位置;以激光钻孔形成该通孔,该通孔穿过该上表面铜箔与该基板,但不穿透该底垫片;于该通孔中顺应地形成一晶种层;以及于该晶种层上电镀一金属以形成一导通孔。
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