[发明专利]将金刚石层施涂在石墨基体上的方法无效
| 申请号： | 200810107458.1 | 申请日： | 2008-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101580931A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | M·弗里达;T·马特;S·马尔卡希 | 申请（专利权）人： | 康迪亚斯有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/44;C04B41/50 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 德国伊*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 在CVD法中将金刚石层稳定地施涂在石墨基体上，条件是在CVD法之前对石墨基体实施下列预处理步骤：在高于500℃，优选高于800℃的温度下于真空中在蚀刻气体气氛中精细净化表面；机械去除松散的颗粒；用极细的金刚石颗粒给基体表面施加晶种；在T＞500℃，优选T＞700℃的温度下于真空中进行至少一次脱气处理以去除吸附的烃类和吸附的空气。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚石 层施涂 石墨 基体 方法 | ||
【主权项】：
1、根据CVD法将金刚石层施涂在石墨基体上的方法，其中在CVD法之前对该石墨基体实施下列预处理步骤：-在高于500℃，优选高于800℃的温度下于真空中在蚀刻气体气氛中精细净化表面，-机械去除松散的颗粒，-用极细的金刚石颗粒给基体表面施加晶种，及-在T＞500℃，优选T＞700℃的温度下于真空中进行至少一次脱气处理以去除吸附的烃类和吸附的空气。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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