[发明专利]薄膜晶体管液晶显示器像素结构及制作方法有效

专利信息
申请号: 200810102789.6 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN101546077A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 何祥飞;王威 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/12;H01L29/786;H01L21/84;G03F1/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人: 程殿军;张颖玲
地址: 100176北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管液晶显示器的像素结构,涉及TFT-LCD技术,为解决当前TFT-LCD显示效果不佳及工艺繁杂而提出,所采用的技术方案是:包括有栅线和数据线,栅线和数据线交叉形成像素区域,所述像素区域包括至少一薄膜晶体管和一像素电极,所述薄膜晶体管的源极形成在最底层,所述源极上依次为有源层和漏极,所述源极与数据线连接、漏极与像素电极连接;所述栅极形成在有源层的侧面,并与栅线连接;所述有源层的侧面、与有源层的侧面相对的栅极部分构成垂直向的电流沟道,即形成侧栅极沟道。本发明同时公开了一种前述像素结构的制作方法。本发明明显提高了TFT沟道的电流强度,改善了TFT-LCD的显示效果,提高了TFT-LCD像素结构的制作效率。
搜索关键词: 薄膜晶体管 液晶显示器 像素 结构 制作方法
【主权项】:
1、一种薄膜晶体管液晶显示器的像素结构,包括有栅线和数据线,栅线和数据线交叉形成像素区域,所述像素区域包括至少一薄膜晶体管和一像素电极,其特征在于,所述薄膜晶体管的源极形成在最底层,所述源极上依次为有源层和漏极,所述源极与数据线连接、漏极与像素电极连接;所述栅极形成在有源层的侧面,并与栅线连接;所述有源层的侧面、与有源层的侧面相对的栅极部分构成垂直向的电流沟道,即形成侧栅极沟道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810102789.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top