[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法有效
申请号: | 200810099074.X | 申请日: | 2008-05-16 |
公开(公告)号: | CN101308327A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 花村政晓;内池千浩;饭岛孝浩;滨田谦一 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/028 | 分类号: | G03F7/028;G03F7/00;G02B3/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 庞立志;孙秀武 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法。本发明涉及放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有:[A]含有(a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种以及(a2)具有选自环氧乙烷基和氧杂环丁烷基中的至少一种基团的不饱和化合物而成的不饱和化合物的共聚物;[B]1,2-重氮醌化合物;和[C]具有脂环式环氧乙烷基且没有羧基的化合物。上述放射线敏感性树脂组合物具有高的放射性灵敏度,具有在显影工序中即使超过最佳显影时间也能够形成良好图案形状的显影余地,可以容易地形成密合性优异的层间绝缘膜或微透镜。 | ||
搜索关键词: | 放射线 敏感性 树脂 组合 绝缘 透镜 以及 它们 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有[A]、[B]和[C],[A]不饱和化合物的共聚物,所述不饱和化合物含有:(a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种、以及(a2)具有选自环氧乙烷基和氧杂环丁烷基中的至少一种基团的不饱和化合物而成;[B]1,2-重氮醌化合物;和[C]具有脂环式环氧乙烷基且没有羧基的化合物。
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