[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它 们的形成方法。

背景技术

在薄膜晶体管(以下记做“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、 集成电路元件、固体摄影元件等电子部件中，为了使配置成层状的配线 之间绝缘，一般设有层间绝缘膜。作为形成层间绝缘膜的材料，优选用 于获得所需图案形状的工序数少且具有充分平坦性的材料，所以广泛使 用放射线敏感性树脂组合物(参照日本特开2001-354822和日本特开 2001-343743)。

在上述电子部件中，例如TFT型液晶显示元件是经过如下工序制造 的：在上述的层间绝缘膜上形成透明电极膜，进而在其上形成液晶取向 膜。因此，层间绝缘膜在透明电极膜的形成工序中暴露于高温条件下， 暴露于形成电极图案所使用的抗蚀剂的剥离液中，所以需要应对这些的 充分耐性。

此外，近年来，TFT型液晶显示元件有要求进一步大画面化、高亮 度化、高精细化、高速响应化、薄型化等的趋势，作为其中所用的层间 绝缘膜形成用组合物要求高灵敏度，所形成的层间绝缘膜较以往进一步 要求低介电常数、高透过率等高性能化。

另一方面，作为传真机、电子复印机、固体摄像元件等的晶载滤色 片(on-chip color filter)的成像光学系或者光纤连接器的光学系材料， 使用具有3～100μm左右的透镜直径的微透镜，或者使用将多个这些微 透镜规则排列而得到的微透镜阵列。

在微透镜或微透镜阵列的形成中，已知有如下方法：形成相当于透 镜的图案状薄膜之后，将其加热处理，由此使其熔融流动，直接作为透 镜使用的方法；或者将熔融流动的透镜图案用掩模进行干蚀刻而将透镜 形状转印到基材(下地)的方法等。在上述透镜图案的形成中，广泛使 用放射线敏感性树脂组合物(日本特开平6-18702和日本特开平6- 136239)。

然而，形成有上述那样的微透镜或微透镜阵列的元件，为了在其后 将配线形成部分即焊盘(bonding pad)上的各种绝缘膜除去，形成平坦 化膜和蚀刻用抗蚀膜后，用所需的掩模进行曝光、显影，并将焊盘部分 的抗蚀刻膜除去，接着通过蚀刻将平坦化膜及各种绝缘膜除去后供给露出 焊盘部分的工序。因此，对于微透镜或微透镜阵列来说，在平坦化膜和 蚀刻抗蚀膜的成膜工序以及蚀刻工序中，需要耐溶剂性和耐热性。

要求用于形成这样的微透镜的放射线敏感性树脂组合物为高灵敏 度，此外，由该树脂组合物形成的微透镜具有所需的曲率半径，为高耐 热性、高透过率等。

如此得到的层间绝缘膜、微透镜，在形成它们时的显影工序中，显 影时间稍微超过最佳时间，则显影液渗透在图案与基板之间而容易产生 剥离，所以必须严格控制显影时间，在产品的产量方面存在问题。

这样，由放射线敏感性树脂组合物形成层间绝缘膜、微透镜时，作 为组合物要求高灵敏度，此外还要求显示即使在显影工序中显影时间超 过规定时间时也不会产生图案的剥离的良好的密合性，并且由该组合物 形成的层间绝缘膜为高耐热性、高耐溶剂性、低介电常数、高透过率等， 另一方面，形成微透镜时要求作为微透镜的良好的熔融形状(所需的曲 率半径)、高耐热性、高耐溶剂性、高透过率等，但满足这样的要求的 放射线敏感性树脂组合物以往还是未知的。

发明内容

本发明是基于上述情况而进行的。因此，本发明的目的在于提供一 种放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线灵敏度，具有在显影工序 中即使超过最佳显影时间也能够形成良好图案形状的显影余地 (現像マ一ジン)，可以容易地形成密合性优异的图案状薄膜。

本发明的其它目的在于提供一种放射线敏感性树脂组合物，其用于 形成层间绝缘膜时，能够形成高耐热性、高耐溶剂性、高透过率、低介 电常数的层间绝缘膜，此外，用于形成微透镜时，能够形成具有高透过 率和良好熔融形状(メルト形状)的微透镜。

本发明的另外的目的在于提供用上述放射线敏感性树脂组合物形 成层间绝缘膜和微透镜的方法。

本发明的另外的目的在于提供通过本发明的方法形成的层间绝缘 膜和微透镜。

本发明的另外的目的和优点由以下的说明可明确。

根据本发明，本发明的上述目的和优点，第1，由如下的放射线敏 感性树脂组合物达成：该放射线敏感性树脂组合物含有[A]、[B]和[C]，