[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法

权利要求书

1.放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有[A]、[B]和[C]，

[A]不饱和化合物的共聚物：100重量份，所述不饱和化合物含有： (a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种、以及(a2)具有 环氧乙烷基的不饱和化合物；

[B]1，2-重氮醌化合物：5～100重量份；和

[C]具有脂环式环氧乙烷基且没有羧基的化合物：1～40重量份，

其中，[C]具有脂环式环氧乙烷基且没有羧基的化合物是(c1)具有 脂环式环氧乙烷基且没有羧基的不饱和化合物和(c2)没有脂环式环氧 乙烷基且没有羧基的不饱和化合物的共聚物，或者是下式(7)表示的 化合物，

式(7)中的a、b、c和d各自独立地表示1。

2.权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其用于形成层间绝 缘膜。

3.层间绝缘膜的形成方法，其特征在于，以下述顺序包括以下工序：

(1)在基板上形成权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物的 涂膜的工序，

(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，

(3)显影工序，以及

(4)加热工序。

4.层间绝缘膜，其是通过权利要求3所述的方法形成的。

5.权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其用于形成微透 镜。

6.微透镜的形成方法，其特征在于，以下述顺序包括以下工序：

(1)在基板上形成权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物的 涂膜的工序，

(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序，

(3)显影工序，以及

(4)加热工序。

7.微透镜，其是通过权利要求6所述的方法形成的。