[发明专利]形成光阻图案的方法、制造显示面板和显示装置的方法无效
| 申请号： | 200810095173.0 | 申请日： | 2008-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN101261439A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 申暻周;昔俊亨;蔡钟哲 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形成光阻图案的方法、一种制造显示面板的方法以及制造显示装置的方法。该形成光阻图案的方法包括形成光阻，并通过按照区域执行不同次数的曝光工艺，形成具有阶梯部分的光阻图案。根据本发明，降低了制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 方法 制造 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】：
1、一种形成光阻图案的方法，该方法包括：形成光阻；以及通过按照区域执行不同次数的曝光工艺，形成具有阶梯部分的光阻图案。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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