[发明专利]形成光阻图案的方法、制造显示面板和显示装置的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于形成具有阶梯部分的光阻图案的方法、一种制造显示面板的方法和制造显示装置的方法，更具体地，涉及一种形成光阻图案的方法、一种制造显示面板的方法以及制造显示装置的方法，其中降低了制造成本。

背景技术

液晶显示器(“LCD”)面板包括薄膜晶体管(“TFT”)阵列基板、滤色器阵列基板，以及夹置在TFT阵列基板和滤色器阵列基板之间的液晶层。

TFT阵列基板包括横向设置的栅线、纵向设置与栅线交叉的数据线、在栅线和数据线的交叉点形成与栅线和数据线电连接的TFT、以及在像素区域内形成与TFT电连接的像素电极。

滤色器阵列基板包括用于防止光泄漏的黑矩阵、具有形成在像素区域上的红R、绿G、蓝B滤色器的滤色器层、以及与像素电极一起形成电场的公共电极。

LCD面板由供应到像素电极的数据电压和供应到公共电极的公共电压之间的电压差形成的电场驱动液晶层来显示图像。

在制造这样的LCD面板的工艺中，曝光掩模一般用于形成期望的图案。具体地，TFT阵列基板由四掩模工艺制造，其中形成了栅绝缘层、半导体层、欧姆接触层和数据图案。此时，使用具有狭缝的狭缝掩模或者半色调(half-tone)掩模以便形成TFT的沟道。

发明内容

本发明的多个方面提供了一种形成光阻图案的方法、制造显示面板的方法以及制造显示装置的方法，其中，通过使用数字曝光单元，按照区域曝光光阻，从而没有使用掩模制造显示面板，因此降低了制造成本。

本发明的典型实施例提供了形成光阻图案的方法，该方法包括形成光阻，以及按照区域执行不同次数的曝光工艺，形成具有阶梯部分的光阻图案。

光阻图案可包括第一区域和低于第一区域的第二区域，其中对第一区域的曝光次数多于对第二区域的曝光次数。

形成光阻图案的方法可进一步包括对应于光阻图案的第一和第二区域，使光阻的第一和第二区域经受第一曝光，以及使光阻的第一区域经受第二曝光。

在第一曝光期间，不同强度的光可分别辐射到光阻的第一和第二区域。

在第一曝光期间，比辐射到光阻的第二区域的光更强的光辐射到光阻的第一区域。

形成光阻图案的方法可进一步包括，在第一曝光期间，对光阻的第一和第二区域辐射相同强度的光，以及在第二曝光期间，辐射与第一曝光相比不同强度的光。

光阻图案可包括第一区域和低于第一区域的第二区域，其中对第一区域的曝光次数小于对第二区域的曝光次数。

本发明的其它典型实施例提供了制造显示面板的方法，该方法包括通过第一导电层在基板上形成具有栅线和栅极的栅极图案，在基板上顺续地形成栅绝缘层、非晶硅层、掺杂非晶硅层、第二导电层、以及光阻，其中光阻包括沟道区域以及数据图案区域，通过该沟道区域形成薄膜晶体管(“TFT”)沟道，通过该数据图案区域形成具有TFT的源极和漏极以及数据线的数据图案，使光阻经受曝光以形成具有阶梯部分的光阻图案，其中沟道区域和数据图案区域接受不同的曝光次数，利用光阻图案执行蚀刻工艺以形成TFT和数据线，在基板上形成钝化膜，该钝化膜具有暴露漏极的一部分的像素接触孔，并在钝化膜上形成像素电极，该像素电极经由像素接触孔电连接到漏极。

该光阻具有负感光性。

该光阻图案可以具有包括数据图案区域和沟道区域的阶梯部分，通过该数据图案区域形成源极和漏极以及数据线，通过该沟道区域形成TFT的沟道，并且光阻图案的数据图案区域高于光阻图案的沟道区域。

对沟道区域的曝光次数可以少于对数据图案区域的曝光次数。

形成显示面板的方法进一步包括使沟道区域和数据图案区域的光阻经受第一曝光，并使数据图案区域的光阻经受第二曝光。

在第一曝光期间，不同强度的光可分别辐射到光阻的沟道区域和光阻的数据图案区域。

在第一曝光期间，比光阻的沟道区域更强的光可辐射到光阻的数据图案区域。

形成显示面板的方法可进一步包括，在第一曝光期间，对光阻的沟道区域和光阻的数据图案区域辐射相同强度的光，在第二曝光期间，辐射与第一曝光相比不同强度的光。

形成显示面板的方法可进一步包括，在第二曝光之后，使数据图案区域再经受至少一次的曝光。

光阻可具有正感光性。

光阻图案可具有包括数据图案区域和沟道区域的阶梯部分，通过该数据图案区域，形成源极和漏极以及数据线，通过该沟道区域形成TFT的沟道，并且光阻图案的数据图案区域高于光阻图案的沟道区域。