[发明专利]光器件及曝光装置有效
| 申请号： | 200810094943.X | 申请日： | 2008-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101299088A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 向井厚史;园田慎一郎 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42;H01S5/00;H01S3/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陆锦华;谢丽娜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种能抑制光输出的降低的光器件及曝光装置。本发明的光器件包含出射短波长(例如160～500nm)的激光的激光光源、透镜、透明部件及光纤而构成。还有，按透明部件和光纤的抵接面上的光密度为140[W/mm2]以下的方式构成光器件。这样就能抑制熔化所造成的光输出的降低。 | ||
| 搜索关键词： | 器件 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光器件，具备：输出给定波长的光的光源；使上述给定波长的光透过的第1光学部件；以及与上述第1光学部件抵接而使上述给定波长的光透过的第2光学部件，其中，上述给定波长是160～500[nm]，并且上述第1光学部件和上述第2光学部件的抵接面上的光密度是140[W/mm2]以下。
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