[发明专利]用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统有效
| 申请号： | 200810090140.7 | 申请日： | 2008-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101251671A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 赵志鸿;郑德胜;杉浦规生 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/139 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统。该曝光装置包括一座台以及一光源。该至少一光源是位于该座台上方。该座台包括：一下板、一上板以及至少一加热件。上板位于该下板上并与该下板接合。该上板具有：至少一主动区(active area)；至少一虚构区(dummy area)大体环绕该主动区；以及复数第一吸附结构位于该至少一虚构区内。以解决在制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，聚合物稳定配向式像素结构的液晶分子排列不符合理想的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 聚合 工艺 曝光 装置 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种用于聚合配向工艺的曝光装置，其特征在于，该装置包括：一座台，该座台包括：一下板，包括至少一加热件；以及一上板，位于该下板上并与该下板接合，该上板具有：至少一主动区；至少一虚构区大体环绕该主动区；以及复数第一吸附结构位于所述的至少一虚构区内；以及至少一光源，位于所述的座台上方。
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