[发明专利]用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统

权利要求书

1.一种用于聚合配向工艺的曝光装置，其特征在于，该装置包括：

一座台，该座台包括：

一下板，包括至少一加热件；以及

一上板，位于该下板上并与该下板接合，该上板具有：

至少一主动区，对应液晶显示面板的显示区；

至少一虚构区大体环绕该主动区，对应液晶显示面板的非显示 区；以及

复数第一吸附结构位于所述的至少一虚构区内；以及

至少一光源，位于所述的座台上方。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的上板更具有复数第 二吸附结构位于所述的至少一主动区内。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第二吸附结构 是为复数真空孔，所述的这些真空孔的孔径是小于或等于1.2毫米。

4.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第二吸附结构 是为复数真空沟槽，所述的这些真空沟槽的宽度是小于或等于1.2毫米。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，该曝光装置更包括复数定 位件，大体环绕所述的座台。

6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的上板包括：

一底板，其中该底板是为一实心板材；以及

一抗反射层，形成于所述的底板的一上表面，其中所述的底板的材质是 包括铝、不锈钢或铝镁合金，其中所述的抗反射层的材质是包括黑色的聚四 氟乙烯、黑色的铝阳极处理材或黑色的铝无电镀材，其中所述的抗反射层的 厚度为30微米至50微米。

7.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的下板更包括：

一第一平板；以及

一第二平板，位于所述的第一平板上并与所述的第一平板接合，其中所 述的加热件是大体位于所述的第一平板以及所述的第二平板之间，其中所述 的第一平板以及所述的第二平板的材质是包括铝、不锈钢或铝镁合金，所述 的曝光装置更包括一锁固件用以接合所述的第一平板以及所述的第二平板。

8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的至少一加热件是包 括至少一含液体管线或至少一电阻加热器。

9.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的下板具有复数辅助 吸附结构形成于所述的上表面，用以真空吸附所述的上板。

10.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第一吸附结 构是为复数真空孔，所述的这些真空孔的孔径的边缘与所述的主动区的最小 距离为大于1毫米。

11.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的座台具有复数抬 举件容置孔，大体设置于所述的虚构区内，所述的曝光装置更包括复数抬举 件对应设置于所述的这些抬举件容置孔内，其中所述的这些抬举件容置孔的 孔径的边缘与所述的主动区的最小距离为大于1毫米，其中所述的这些抬举 件容置孔是贯穿所述的座台。

12.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的至少一光源是包 括至少一紫外光灯管。

13.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述的座台的一上表面 的粗糙度高度的差异为小于或等于±100微米/100平方毫米，且整个座台的上 表面或是所述的抗反射层的上表面的粗糙度高度的差异为小于或等于500微 米。

14.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第一吸附结 构是为复数真空沟槽，所述的这些真空沟槽的宽度的边缘与所述的主动区的 最小距离为大于1毫米。