[发明专利]光刻曝光装置、系统和光刻图形化方法有效
| 申请号： | 200810088048.7 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101349872A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 李凤宁;陈永镇;高耀寰;柯力仁;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/38;G03F7/40;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 台湾省新竹市新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光刻曝光装置、系统和光刻图形化方法。该装置至少包含曝光模块、烘烤模块和控制模块。曝光模块设计适用于曝光程序。烘烤模块嵌置于前述的曝光模块中，且设计适用于曝光后烘烤(Post Exposure Baking；PEB)。控制模块设计用来控制曝光模块和烘烤模块。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 曝光 装置 系统 图形 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻曝光装置，其特征在于，至少包含：一曝光模块，设计以适用于一曝光程序；一烘烤模块，嵌置于该曝光模块中且设计以适用于一曝光后烘烤程序；以及一控制模块，设计以用来控制该曝光模块和该烘烤模块。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810088048.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
