[发明专利]多晶硅薄膜太阳能电池的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810049380.2 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101540346A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 高文秀 申请(专利权)人: 高文秀
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0368
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 代理人: 田小伍
地址: 210083*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 多晶硅薄膜太阳能电池制造方法,包括3N级纯度多晶硅片、尤其是3N级纯度高掺杂的具有大晶粒柱状晶的多晶硅片衬底的处理和在衬底上外延形成第一半导体层和第二半导体层步骤、形成接触电极步骤和在第二半导体层上形成一层减反射膜步骤。本发明方法工艺简单、成本低、易于产业化,制造的太阳能电池效率高。
搜索关键词: 多晶 薄膜 太阳能电池 制造 方法
【主权项】:
1、多晶硅薄膜太阳能电池制造方法,包括在衬底上外延形成第一半导体层和第二半导体层步骤、形成接触电极步骤和在第二半导体层上形成一层减反射膜步骤,其特征在于,衬底选择3N级纯度多晶硅片。
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