[发明专利]一种超纯硅烷气瓶的内壁处理方法无效
| 申请号: | 200810024680.5 | 申请日: | 2008-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN101250704A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
| 发明(设计)人: | 林培川 | 申请(专利权)人: | 南京特种气体厂有限公司 |
| 主分类号: | C23F15/00 | 分类号: | C23F15/00 |
| 代理公司: | 南京知识律师事务所 | 代理人: | 程化铭 |
| 地址: | 211113*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种超纯硅烷气瓶的内壁处理方法,其步骤如下:内壁打磨:用石英砂加去离子水打磨;用内窥镜检查气瓶内壁,不能有锈疤和不光滑的表面。采用去离子水清洗气瓶内表面,直到清洗后的电导率≤0.1μS/cm为合格;倒置气瓶,倒出瓶内残留的水;内壁镀锌镍复合镀层;再清洗内壁;将气瓶烘干,对气瓶抽真空至≤10Pa;充入6N高纯氢至3~4MPa,放置24小时后测量气瓶内气体的含水量,≤0.5ppm为合格;放掉氢气,抽真空至≤1Pa,灌装硅烷,放置10天以上,分析硅烷中各项杂质含量,特别是含水量≤2ppm;30天,60天后再次分析,如各项杂质指标无变化,则处理完毕。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 硅烷 内壁 处理 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种超纯硅烷气瓶的内壁处理方法,其步骤如下:A、内壁打磨:将处理的气瓶去掉瓶阀,放置于旋转的气瓶滚动机上,用石英砂加去离子水打磨;倒出石英砂和去离子水;B、内壁检查:用内窥镜检查气瓶内壁,不能有未打磨干净的锈疤和不光滑的表面,如有则返回步骤A,否则进入步骤C。C、内壁清洗:采用去离子水清洗气瓶内表面,直到清洗后的电导率≤0.1uS/cm为合格;倒置气瓶,倒出瓶内残留的水;D、内壁镀镍:内壁镀锌镍复合镀层;再按步骤C清洗内壁;E、气瓶烘干:将内壁清洗合格的气瓶装上瓶阀,放入105~110℃的真空干燥箱,对气瓶抽真空至≤10Pa;F、处理结果检查:真空干燥合格的气瓶,充入6N高纯氢至3~4MPa,放置24小时后测量气瓶内气体的含水量,≤0.5ppm为合格;不合格,放掉氢气,返回步骤D操作,合格为止;G、放掉氢气,抽真空至≤1Pa,灌装硅烷,放置10天以上,分析硅烷中各项杂质含量,特别是含水量≤2ppm;30天,60天后再次分析,如各项杂质指标无变化,则处理完毕;否则,返回步骤A。
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