[发明专利]单晶硅片水基清洗剂无效
| 申请号： | 200810011318.4 | 申请日： | 2008-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN101265439A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 张魁兰 | 申请（专利权）人： | 大连三达奥克化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/66 | 分类号： | C11D1/66;C11D3/43;C11D3/30;C11D3/20;C11D3/10 |
| 代理公司： | 大连非凡专利事务所 | 代理人： | 闪红霞 |
| 地址： | 116023辽宁省大连市高新技术园*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种单晶硅片水基清洗剂，其特征在于是荧光黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：表面活性剂20～40、溶剂5～15、pH调节剂15～20、光亮剂10～20、去离子水30～45。是利用表面活性剂的复配性能，提高了表面去污力及保持清洁度的持续性，同时可使硅片洗后无水痕，更加光亮，对于单晶硅片等物料具有良好的清洁效果，并且提高了清洗速度和耐用性能。配制浓度低、用料少，不仅降低了用户的使用成本，还减少了污水排放，达到了节能减排的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 单晶硅 片水基清 洗剂 | ||
【主权项】：
1.一种单晶硅片水基清洗剂，其特征在于是荧光黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：表面活性剂 20～40溶剂 5～15PH调节剂 15～20光亮剂 10～20去离子水 30～45。
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