[发明专利]单晶硅片水基清洗剂

权利要求书

1.一种单晶硅片水基清洗剂，其特征在于是荧光黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：

表面活性剂    20～40

溶剂          5～15

PH调节剂      15～20

光亮剂        10～20

去离子水      30～45。

2.根据权利要求1所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂为EMULAN乳化剂、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺中的一种或两种。

3.根据权利要求1所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8～9个碳的伯醇或仲醇，乙氧基为8～10个，丙氧基为3～6。

4.根据权利要求2或3所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8～14个碳的醇，乙氧基为3～6个。

5.根据权利要求4所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述烷醇酰胺为16～18个碳的月桂基或椰子油基。

6.根据权利要求1所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的溶剂为乙醇、萜烯、碳酸二甲脂中的一种或两种。

7.根据权利要求1所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、硅酸钠、乳酸中的一种或两种。

8.根据权利要求1所述的单晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。