[发明专利]水处理系统及水处理方法无效
| 申请号： | 200810009243.6 | 申请日： | 2008-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN101497487A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 铃木浩之;阿部法光;村山清一;出健志 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | C02F9/08 | 分类号： | C02F9/08;C02F1/50;C02F1/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，在该水处理系统中具有控制装置(13a、13b)，该控制装置针对后段工序所设有的池(8)的紫外线的照射量减少的情况，使对中段工序或前段工序所设有的池(3、5)紫外线的照射量增大。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种水处理系统，其使引入的原水依次流过多个池，在流过该各池的过程中将原水处理成净水，其特征在于，包括：注入装置，其将次氯酸钠注入到从所述各池中选择的池内的处理水中；紫外线照射装置，其对从所述各池中选择的池内的处理水照射紫外线；对所述各池的紫外线的照射量进行测量的照度计；以及控制装置，该控制装置进行如下控制：在设有下述池的后段工序中，该池是在所述各池中将处理水供给到用于配送所述净水的配水池中的池，在由所述照度计测量的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序或前段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。
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