[发明专利]水处理系统及水处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于将从水源引入的原水处理成净水的水处理系统。

背景技术

一般来说，净水厂设施由向家庭和营业场所提供可饮用的生活用水的自来水工厂组成。在净水厂设施中利用了将原水处理成可饮用的净水的水处理系统。该水处理系统例如使从河流中所取来的原水依次流过沉沙池、着水池、沉淀池、过滤池、氯混和池、配水池，在流过各池的过程中，将原水处理成可饮用的净水。作为水处理系统的最后工序，是从配水池将可饮用的净水配送给家庭和营业场所等各用户。

这种净水厂设施所利用的水处理系统，在前段工序所设有的着水池中，注入次氯酸钠(有时写成CN)和苛性苏打等，对原水中含有的细菌和藻进行第1次杀菌、杀藻处理。进而，在中段工序所设有的沉淀池中，进行使用了次氯酸钠的第2次杀菌、杀藻处理。接着，在过滤池过滤完砂子等后，在后段工序所设有的氯混和池中，对净化成可饮用的处理水中所含有的氯含量进行调整，进行使用了次氯酸钠的第3次杀菌、杀藻处理。

在这种杀菌和杀藻处理中采用了次氯酸钠。不过，近年来指出了如下情况：因使用次氯酸钠进行杀藻、消毒处理而产生的副生成物(三卤甲烷)为致癌物质的可能性很大。因此，在采用次氯酸钠进行的杀藻、消毒处理中，要求抑制副生成物(三卤甲烷)的生成。为了达到这样的要求，从前段工序到后段工序使前段工序、中段工序、后段工序中的次氯酸钠的注入量的比例发生移动是有效的。

不过，另一方面，若减少前段工序中的次氯酸钠的注入量，就变成如下状态：不能顺利地对沉沙池、着水池等前段工序所设有的各池中的处理水进行杀藻、消毒处理，残存有藻类及大肠杆菌等菌类。或者，不能除净藻类及大肠杆菌等菌类，出现了残留。

因此，如下所述的方式引人注目(例如参照日本特开2004-188273号公报)：在净水厂设施中，在注入次氯酸钠的同时，对前段工序、中段工序、后段工序等各工序中的处理水照射紫外线(有时写成UV)。即，在净水厂设施所利用的水处理系统中，在前段工序、中段工序、后段工序的各工序中，将注入次氯酸钠且同时使用紫外线的照射作为对各池的处理水的杀藻、消毒处理被确认是有效的。

不过，紫外线的照射是利用紫外线灯(UV灯)的发光来进行的。UV灯由玻璃材质罩着。若该罩的表面弄脏，紫外线的照射量就减少(下降)。而且，由于UV灯自身的老化，照射量减少(下降)。若紫外线的照射量减少，就引起杀菌和杀藻的处理能力的下降。在这种情况下，需要有效的对策。

发明内容

本发明的目的在于，在同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理的水处理系统中，对紫外线的照射量减少的情况提供有效的对策。

本发明的观点在于：一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，其中对紫外线的照射量减少的情况，具有对杀菌和杀藻的处理能力进行补救的手段。

按照本发明的观点的水处理系统使引入的原水依次流过多个池，在流过该各池的过程中将原水处理成净水，其包括：注入照射装置，该装置包括：对从所述各池中选择的池的处理水注入次氯酸钠的注入装置、以及照射紫外线的紫外线照射装置；对所述各池的紫外线的照射量进行测量的照度计；以及控制装置，该控制装置进行如下控制：在设有下述池的后段工序中，该池是在所述各池中将处理水供给到用于配送所述净水的配水池中的池，在由所述照度计测量的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对比所述后段工序处于较靠前的阶段的工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

根据本发明，可提供一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，其中对紫外线的照射量减少的情况具有有效的对策。

附图说明

图1是表示使用了本发明的实施形态所涉及的水处理系统的净水厂设施的主要部分的示意图。

图2是表示本实施形态所涉及的各注入照射控制部和各照度计的之间的连接关系的图。

图3是表示本实施形态所涉及的监视控制部的概略构成的方框图。

图4是表示本实施形态所涉及的中段注入照射控制部的概略构成的方框图。

图5是用于说明本实施形态所涉及的后段工序中的注入照射控制部的控制动作的流程图。

图6是用于说明第2实施形态所涉及的注入照射控制部的控制动作的流程图。

具体实施方式

下面参照附图，对本发明的第1实施形态进行说明。

图1是表示使用了本实施形态所涉及的水处理系统的净水厂设施的主要部分的示意图。