[发明专利]水处理系统及水处理方法

权利要求书

1.一种水处理系统，其使引入的原水依次流过多个池，在流过该各池的过程中将原水处理成净水，其特征在于，包括：

注入装置，其将次氯酸钠注入到从所述各池中选择的池内的处理水中；

紫外线照射装置，其对从所述各池中选择的池内的处理水照射紫外线；

对所述各池的紫外线的照射量进行测量的照度计；以及

控制装置，该控制装置进行如下控制：在设有下述池的后段工序中，该池是在所述各池中将处理水供给到用于配送所述净水的配水池中的池，在由所述照度计测量的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序或前段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

2.如权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，所述控制装置独立于所述紫外线照射装置，并控制所述注入装置，对注入到从所述各池中选择的池内的处理水中的所述次氯酸钠的注入量进行调整。

3.如权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，所述控制装置包括：

前段注入照射控制单元，其对所述各池中被设在前段工序的池内的处理水中的所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量进行调整；

中段注入照射控制单元，其对所述各池中被设在中段工序的池内的处理水中的所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量进行调整；以及

后段注入照射控制单元，其对所述各池中后段工序所含有的池内的处理水中的所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量进行调整，

所述后段注入照射控制单元是将所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量分别独立地进行控制的构成。

4.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的处理水的所述紫外线的照射量进行测量，

所述中段注入照射控制单元是进行如下控制的构成：根据由所述后段工序所设有的照度计测量的照射量，在后段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

5.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的处理水的所述紫外线的照射量进行测量，

所述前段注入照射控制单元是进行如下控制的构成：根据由所述后段工序所设有的照度计测量的照射量，在后段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对前段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

6.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的处理水的所述紫外线的照射量进行测量，

所述后段注入照射控制单元是进行如下控制的构成：根据由所述中段工序所设有的照度计测量的照射量，在中段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对后段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

7.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的处理水的所述紫外线的照射量进行测量，

所述中段注入照射控制单元是进行如下控制的构成：根据由所述前段工序所设有的照度计测量的照射量，在前段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

8.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的处理水的所述紫外线的照射量进行测量，

所述前段注入照射控制单元是进行如下控制的构成：根据由所述中段工序所设有的照度计测量的照射量，在中段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对前段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

9.如权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，具有对所述各池的处理水的荧光分析值进行测量的荧光分析计，

所述控制装置被按照下述的方式构成：根据由所述荧光分析计所测量的荧光分析值，对所述注入装置的次氯酸钠的注入量或所述紫外线照射装置的紫外线的照射量进行调整。