[发明专利]缺陷修正方法及缺陷修正装置无效

专利信息
申请号: 200810001248.4 申请日: 2008-01-09
公开(公告)号: CN101231393A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 山中昭浩 申请(专利权)人: NTN株式会社
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02B5/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 马淑香
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可始终稳定地对涂敷在缺陷部上的油墨进行校平(膜厚均匀化)的技术。本发明的缺陷修正方法包括在基板上的微小区域内涂敷液态材料的工序(S20)。另外,还包括将具有与基板相对的平坦面的加压头按压在基板上以使平坦面覆盖遮住整个微小区域、从而对涂敷后的液态材料进行加压的工序(S40)。由于通过在整个微小区域内对液态材料均匀地加压,可进行使液态材料的厚度变得均匀的校平,因此可进行高品质的缺陷修正。
搜索关键词: 缺陷 修正 方法 装置
【主权项】:
1.一种缺陷修正方法,通过在基板上的微小区域内涂敷液态材料来修正缺陷,其特征在于,包括:在所述微小区域内涂敷所述液态材料的工序;以及将具有与所述基板相对的平坦面的加压头按压在所述基板上以使所述平坦面覆盖遮住整个所述微小区域、从而对涂敷后的所述液态材料进行加压的工序。
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