[发明专利]涂布底材的方法和装置无效

专利信息
申请号: 200780044859.0 申请日: 2007-11-15
公开(公告)号: CN101553593A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: K-H·杜利;U-S·博伊默;R·基弗;P·沃尔特林;D·霍曼;S·厄尔曼;J-H·赫迪克;O·凯泽 申请(专利权)人: 犹德有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 刘明海
地址: 德国多*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及采用催化活性材料涂布底材的一面或多面的方法,包括在真空室中在真空下的材料沉积,其中进行下列步骤:(a)向真空室中装入至少一个底材,(b)关闭和抽空该真空室,(c)通过将气态还原剂导入该真空室来清洁底材,(d)借助在底材表面上沉积蒸气态组分来增大底材表面积,(e)借助选自等离子涂布法、物理气相沉积、溅射法或类似方法的涂布法涂布,其中将一种或多种金属和/或碱金属和/或碱土金属或它们的氧化物施加到底材表面上。该方法可例如用于涂布氯碱电解中所用的电极。
搜索关键词: 涂布底材 方法 装置
【主权项】:
1.用催化活性材料涂布底材的一面或多面的方法,包括在真空室中在真空下的材料沉积,其特征在于进行下列步骤:(a)向真空室中装入至少一个底材,(b)关闭和抽空该真空室,(c)通过将气态还原剂导入该真空室来清洁底材,(d)借助在底材表面上沉积在理想情况下与底材材料相同的蒸气态组分,增大底材表面积,其中理想地进行等离子蒸发,(e)借助选自等离子涂布法、物理气相沉积、溅射法或类似方法的涂布法涂布,其中将一种或多种金属或它们的氧化物施加到底材表面上,(f)在最后步骤中再次灌充真空室并从该室中取出涂布的底材,其中上述步骤和从一个步骤到相应的下一步骤的过渡在真空下在非必要地不同的压力下进行。
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