[发明专利]含有氢氧化四烃基铵的显像废液的中和方法无效
| 申请号： | 200780040100.5 | 申请日： | 2007-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN101558013A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 山下喜文;中本达也;山内正晴 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | C02F1/66 | 分类号： | C02F1/66;B01D19/02;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘粉宝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供使溶解来自光刻胶的有机物的含有氢氧化四烃基铵的显像废液与二氧化碳或含有二氧化碳的气体在中和塔中逆流接触，对该显像废液进行中和时，不会使中和塔内发生的气泡积存在中和塔中，而可以有效地将其去除的上述显像废液的中和方法。实现这样的目的的本发明的中和方法，在对该显像废液进行中和时，将中和塔塔顶的气相部发生的气泡取出到塔外，使其与加热体接触加以消除。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 氢氧化 四烃基铵 显像 废液 中和 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含有氢氧化四烃基铵的显像废液的中和方法，其特征在于，使溶解来自光刻胶的有机物的含有氢氧化四烃基铵的显像废液与二氧化碳或含有二氧化碳的气体在中和塔中逆流接触，对该显像废液进行中和时，将中和塔塔顶的气相部发生的气泡取出到塔外，将其加以消除。
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