[发明专利]卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置有效
申请号: | 200780030016.5 | 申请日: | 2007-11-16 |
公开(公告)号: | CN101501237A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 广野贵启;野村常仁;多田勋;中塚笃 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/00 | 分类号: | C23C14/00;C23C14/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 史雁鸣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 高效保持清洁单元对罐辊的清洁机能,进行高质量的成膜处理。本发明中,在向基膜(12)进行成膜前,使清洁单元(30)与冷却用罐辊(14)接触,一边使罐辊(14)在非冷却状态下转动一边进行清洁,可以防止清洁单元(30)的过冷却,阻止已除去的灰尘的脱离,能够高效进行清洁单元(30)对罐辊(14)的除尘处理。另外,在完成清洁后,解除清洁单元(30)与罐辊(14)的接触状态,可防止成膜时的罐辊(14)的冷却操作对清洁单元(30)进行冷却,从罐辊(14)的周面除去的灰尘不会脱离而被保持着。 | ||
搜索关键词: | 卷绕 真空 方法 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种卷绕式真空成膜方法,其是在减压气氛中一边使基膜移动一边向上述基膜进行成膜的卷绕式真空成膜方法,其特征在于,一边在非冷却状态下使冷却用辊转动,一边使清洁单元与上述冷却用辊接触以清洁上述冷却用辊,在完成上述冷却用辊的清洁之后,解除上述清洁单元与上述冷却用辊的接触状态,冷却上述冷却用辊,一边使上述基膜与上述冷却用辊紧密贴合,一边向上述基膜进行成膜。
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