[发明专利]卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有基膜的冷却用辊的卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置，更详细地说，涉及一种具有冷却用辊的清洁单元的卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置。

背景技术

过去以来，公知一种卷绕式真空成膜方法，其一边将从卷出辊连续送出的长尺寸的基膜卷绕在冷却用罐辊(キャンロ一ラ)上，一边使来自与该罐辊相向配置的蒸发源的蒸发物质蒸镀在基膜上，并将蒸镀后的基膜卷绕在卷绕辊上(例如参照下述专利文献1)。在这种真空蒸镀方法中，为防止蒸镀时的基膜热变形，而使基膜紧密贴合冷却用罐辊的周面，一边冷却一边成膜。

在真空装置中，真空排气时或大气开放时灰尘在真空槽内飞扬，飞扬起的灰尘易于付着在罐辊、导向辊等上。特别是，付着在罐辊上的灰尘在成膜时妨碍基膜与罐辊之间的紧密贴合，存在以此为原因引起砂眼、薄膜热损伤等问题。所以，为提高成膜质量，在成膜时有必要清洁罐辊的周面。

另一方面，在下述专利文献2中，公开有一种作为印刷用或加工用片材的除尘装置的清洁单元，该清洁单元包括有与移动的片材相接触并除去片表面付着异物的粘附辊。于是，可以考虑使这种清洁单元与上述卷绕式真空蒸镀装置的冷却用罐辊的周面相接触，从而除去付着在罐辊上的灰尘，以提高与薄膜的紧密贴合性的方法。

专利文献1(日本)特许第3795518号公报

专利文献2(日本)特开2004-161491号公报

但是，使得上述结构的清洁单元与冷却用罐辊始终接触以对罐辊周面进行除尘处理的结构中，因为在薄膜的成膜时罐辊被冷却操作，所以与其接触的清洁单元也会被冷却。作为结果，会发生已捕获的灰尘从清洁单元脱离，该灰尘会再次付着于罐辊的周面的不良情况。如果这样的话，清洁罐辊的周面的机能下降，或者反而会污染罐辊，无法维持高质量的成膜。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而进行的，目的在于提供一种能够有效维持清洁单元对罐辊的清洁机能，可实现高质量成膜的卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置。

为解决以上问题，本发明的卷绕式真空成膜方法是一种在减压气氛中一边使基膜移动一边向基膜成膜的卷绕式真空成膜方法，一边在非冷却状态下转动冷却用辊，一边使清洁单元与冷却用辊接触以清洁该冷却用辊，在完成冷却用辊的清洁之后，解除清洁单元与冷却用辊的接触状态，将冷却用辊冷却，一边使基膜与冷却用辊紧密贴合一边向基膜成膜。

另外，本发明的卷绕式真空成膜装置是一种在减压气氛中一边使基膜移动一边向基膜成膜的卷绕式真空成膜装置，包括真空室、在真空室内使基膜移动的移动装置、与移动的基膜紧密贴合并冷却该基膜的冷却用辊、与冷却用辊相向配置并向基膜成膜的成膜装置、与冷却用辊相接触并清洁该冷却用辊的清洁单元、及使清洁单元相对冷却用辊进行付着脱离的驱动机构。

本发明中，在向基膜成膜之前，使清洁单元接触冷却用辊，一边在非冷却状态下转动冷却用辊一边清洁，所以可防止清洁单元的过冷却，阻止所除去的灰尘的脱离，能够高效进行清洁单元对冷却用辊的除尘处理。

另外，在完成清洁后，解除清洁单元与冷却用辊的接触状态，所以可防止因成膜时冷却用辊的冷却操作而冷却清洁单元，从而能够使从冷却用辊周面除去的灰尘不会脱离并保持住。

另外，通过具有使清洁单元相对于冷却用辊付着脱离动作的驱动机构，在真空中，可以根据来自外部的命令，自动进行开始清洁时的清洁单元向冷却用辊的接触动作及完成清洁时的清洁单元从冷却用辊的脱离操作。该外部命令可以是根据作业人员的控制操作，也可以是根据程序执行的电脑控制。

另外，清洁单元的结构并不特别限定于此，例如，可以包括与冷却用辊的周面接触的弹性辊、及除去付着在该弹性辊上的灰尘的粘附辊。

如上所述，根据本发明，由于能够维持清洁单元稳定的除尘效果，因此在真空中可高效地进行冷却用辊的清洁处理，同时实现高质量的成膜。

附图说明

图1是作为根据本发明的实施例的卷绕式真空成膜装置的卷绕式真空蒸镀装置的简要结构图。

图2是显示图1的卷绕式真空蒸镀装置的清洁单元的简要结构的立体图。

图3是清洁单元的要部正面图，分别显示A是清洁时，B是成膜时。

图4是显示图1的卷绕式真空蒸镀装置的动作流程的图。

图5是显示调查由清洁条件不同引起的基膜热损伤的发生状况的实验结果的图。

符号说明

10卷绕式真空蒸镀装置

11真空室

12基膜

13卷出辊