[发明专利]长柔性电路及其制作方法有效
| 申请号： | 200780029022.9 | 申请日： | 2007-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101501574A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 理查德·L·伊姆肯 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制作长柔性电路的方法。所述长电路中的一些可以利用单个光成像掩模来制成。还公开了通过该方法制成的柔性电路。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 电路 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1. 一种方法，包括：提供具有光致抗蚀剂层的电介质基底；以及通过光成像掩模将光致抗蚀剂的第一部分暴露于紫外光，推进所述电介质基底，并通过所述光成像掩模将所述光致抗蚀剂的第二部分暴露于紫外光，其中所述光致抗蚀剂的第二部分与所述光致抗蚀剂的第一部分相交叠，并且其中所述光成像掩模图案化有电路的准直片段。
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