[发明专利]长柔性电路及其制作方法

权利要求书

1.一种用于制作柔性电路的方法，包括：

提供具有光致抗蚀剂层的电介质基底；以及

提供光成像掩模，所述光成像掩模图案化有长电路的几个相邻片 段，所述片段以相对于所述电介质基底的幅材纵向方向的0°至90° 的角度准直，

通过所述光成像掩模将光致抗蚀剂的第一部分暴露于紫外光，并 且

推进所述电介质基底，并通过所述光成像掩模将所述光致抗蚀剂 的第二部分暴露于紫外光，其中所述光致抗蚀剂的第二部分与所述光 致抗蚀剂的第一部分相交叠，从而所述长电路的相邻片段交叠以形成 连续电路图案，所述连续电路图案比所述光成像掩模的尺寸更长。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括第二次推进所述电介质基 底，并通过所述光成像掩模将所述光致抗蚀剂的第三部分暴露于紫外 光，其中所述光致抗蚀剂的第三部分与所述光致抗蚀剂的第二部分相 交叠。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述片段以约25°至约65 °的角度准直。

4.根据权利要求1所述的方法，其中至少一个片段是接线端片段。

5.根据权利要求1所述的方法，其中至少一个片段是中间片段。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述接线端片段是头片段。

7.根据权利要求4所述的方法，其中所述接线端片段是尾片段。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述光成像掩模图案化有电 路的头片段和尾片段，以便在第二次曝光后，在所述光致抗蚀剂中形 成完整的电路图像。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述光成像掩模图案化有电 路的头片段、中间片段、以及尾片段，从而在第三次曝光后，在所述 光致抗蚀剂中形成完整的电路图像。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述光成像掩模还包括基 准图案。

11.根据权利要求10所述的方法，其中通过在所述光致抗蚀剂中 引起颜色变化或者潜像形成中的一者或两者来形成所述基准。

12.根据权利要求10所述的方法，其中使用光识别系统来检测潜 像基准。

13.根据权利要求10所述的方法，其中形成所述基准的方法选自 由激光照射、穿孔和蚀刻组成的组。

14.一种用于制作长柔性电路的制品，包括：

具有图案的光成像掩模，所述图案包括多个比所述光成像掩模的 尺寸更长的电路的相邻区段，所述相邻区段被以与所述光成像掩模的 主轴成一定角度布置，其中所述相邻区段在交叠时形成连续电路图案。

15.根据权利要求14所述的制品，其中所述角度在0°和90°之 间。

16.根据权利要求14所述的制品，其中所述角度在25°和65°之 间。

17.根据权利要求14所述的制品，其中所述区段包括电路的头片 段和尾片段。

18.根据权利要求17所述的制品，其中所述区段还包括电路的一 个或多个中间片段。

19.根据权利要求14所述的制品，其中所述区段包括选自由头片 段、中间片段和尾片段组成的组的至少一个片段。

20.根据权利要求14所述的制品，其中所述图案包括不同的头和 尾片段，它们在结合时形成单个完整电路。

21.根据权利要求20所述的制品，其中所述电路区段还包括电路 的一个或多个不同的中间片段。

22.根据权利要求14所述的制品，其中所述图案还包括基准图案。

23.根据权利要求21所述的制品，其中至少一个中间片段包括接 线端点。