[发明专利]电子装置制造系统的原位光谱分析方法及系统有效
| 申请号： | 200780028488.7 | 申请日： | 2007-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101495849A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | D·K·卡尔森;S·库珀饶 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N7/14 | 分类号： | G01N7/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陆 嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明所揭露的系统及方法包括调整在检测腔室中的样品气体的压力层级(例如利用加压惰性参考气体)，以及判定经调整的样品气体的组成。通过调整样品气体的压力层级，样品气体的组成的判定可相对于其它可能方法而更加精确。本发明亦揭露数种其它实施方面。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 装置 制造 系统 原位 光谱分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种检测一样品气体的方法，包括：调整一样品气体的一压力层级；以及判定经调整的该样品气体的一组成。
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