[发明专利]电子装置制造系统的原位光谱分析方法及系统

权利要求书

1.一种检测样品气体的方法，包括：

调整样品气体的压力层级；以及

判定经调整的所述样品气体的组成；

其中调整所述样品气体的所述压力层级包括将加压惰性气体和额外的 样品气体中的至少一者加入所述样品气体中，并将所述压力层级从小于 100托的较低压力调整至大于100托的较高压力，其中，在小于100托的 较低压力下，分光计测量是不精确的，而在大于100托的较高压力下，所 述样品气体的成分能够通过分光计被精确测量。

2.如权利要求1所述的方法，其中上述的调整所述压力层级的步骤包 括在具有可变出口孔洞的腔室中将加压惰性气体加入所述样品气体中。

3.如权利要求1所述的方法，其中上述的调整所述压力层级的步骤包 括在具有可变出口孔洞的腔室中将额外的样品气体加入所述样品气体中。

4.如权利要求1所述的方法，其中上述的调整所述压力层级的步骤包 括控制可变出口孔洞。

5.如权利要求1所述的方法，其中上述的调整所述压力层级的步骤包 括控制加压泵及可变出口孔洞。

6.如权利要求1所述的方法，其中上述的调整所述压力层级的步骤包 括控制用来供应额外样品气体的可变加压泵。

7.如权利要求1所述的方法，其中上述的判定经调整的所述样品气体 的组成的步骤包括在所述样品气体的所述压力层级被调整之前及之后量测 所述样品气体的组成。

8.如权利要求1所述的方法，其中上述的判定经调整的所述样品气体 的组成的步骤包括计算所述样品气体及加入所述样品气体的参考气体的组 成，以调整所述样品气体的所述压力层级。

9.一种用于检测样品气体的设备，包括：

样品槽，适于含有待检测的气体；

配件，耦接至所述样品槽，并适于将样品气体传送至所述样品槽中；

以及

控制器，适于调整所述样品气体在所述样品槽中的压力层级；

其中所述调整包括将所述压力层级从小于100托的较低压力调整至大 于100托的较高压力，其中，在小于100托的较低压力下，分光计测量是 不精确的，而在大于100托的较高压力下，所述样品气体的成分能够通过 分光计被精确测量。

10.如权利要求9所述的设备，其中所述控制器包括加压惰性气体供 应器。

11.如权利要求9所述的设备，其中所述控制器包括可变出口孔洞。

12.如权利要求9所述的设备，其中所述控制器包括加压泵。

13.如权利要求9所述的设备，其中所述控制器包括可调式加压泵。

14.一种用于检测样品气体的系统，包括：

处理工具，具有数个可分离的空间，且该些空间内含有待检测的气体；

样品槽，适于含有待检测的样品气体；

配件，选择性地将所述样品槽耦接至该些空间；以及

控制器，适于调整所述样品气体在所述样品槽中的压力层级；

其中所述调整包括将所述压力层级从小于100托的较低压力调整至大 于100托的较高压力，其中，在小于100托的较低压力下，分光计测量是 不精确的，而在大于100托的较高压力下，所述样品气体的成分能够通过 分光计被精确测量。

15.如权利要求14所述的系统，其中所述控制器包括加压惰性气体 供应器。

16.如权利要求14所述的系统，其中所述控制器包括可变出口孔洞。

17.如权利要求14所述的系统，其中所述控制器包括加压泵。

18.如权利要求14所述的系统，其中所述控制器包括可调式加压泵。