[发明专利]用于介电膜的提高速率的化学机械抛光组合物无效
| 申请号： | 200780027114.3 | 申请日： | 2007-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN101490203A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·瓦卡西;本杰明·拜尔;陈湛;杰弗里·张伯伦 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光组合物，其基本上由二氧化硅、氧化剂、季铵化合物、及水组成。本发明进一步提供一种使用前述抛光组合物来化学机械抛光基板的方法。当用该抛光组合物抛光介电膜时，其提供提高了的抛光速率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 介电膜 提高 速率 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
1. 一种化学机械抛光组合物，其基本上由以下物质组成：(a)二氧化硅，其具有10nm至40nm的平均初级粒径；(b)氧化剂，其选自过氧化氢、脲过氧化氢、过碳酸盐、过氧化苯甲酰、过乙酸、过氧化钠、二叔丁基过氧化物、单过硫酸盐、二过硫酸盐、硝酸盐、铁(III)化合物、及其组合；(c)季铵化合物，其包含具有结构R1R2R3R4N+的阳离子，其中R1、R2、R3及R4独立地选自C2-C6烷基及C7-C12芳烷基；及(d)水，其中该抛光组合物具有1至5的pH值。
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