[发明专利]非易失性存储器AND阵列及其操作方法有效

专利信息
申请号: 200780025152.5 申请日: 2007-07-03
公开(公告)号: CN101484993A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 米切尔·J·范杜仑;罗伯图斯·T·F·范沙耶克 申请(专利权)人: NXP股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/115;G11C16/04;H01L21/8247
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 陈 源;张天舒
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种半导体衬底上的非易失性存储单元(50,75)包括第一晶体管和第二晶体管(A,B)。每个晶体管均被布置为一个存储元件,该存储元件包括两个能够充当源极或漏极的扩散区域(A1,A3;A2,A3)、电荷存储元件(CEA,CEB)和控制栅极元件(CG)。沟道区域位于两个扩散区域之间。电荷存储元件位于沟道区域上方,控制栅极元件被布置在电荷存储元件的上面。第一晶体管(A)的一个扩散区域(A3)和第二晶体管(B)的一个扩散区域(A3)形成了公共扩散区域。第一晶体管(A)的另一扩散区域(A 1)被连接成连接至第一位线的第一扩散区域,第二晶体管(B)的另一扩散区域(A2)被连接成连接至第二位线的第二扩散区域,以及公共扩散区域(A3)连接至感测线。还描述了操作该非易失性AND存储器的方法。
搜索关键词: 非易失性存储器 and 阵列 及其 操作方法
【主权项】:
1. 一种半导体衬底(100)上的非易失性存储单元(50;75),其包括第一晶体管和第二晶体管(A,B),每个晶体管(A;B)均被布置为一个存储元件,该存储元件包括能充当源极或漏极的两个扩散区域(A1,A3;A2,A3)、电荷存储元件(CEA;CEB)和控制栅极元件(CG-A;CG-B),沟道区域(R1;R2)位于这两个扩散区域(A1,A3;A2,A3)之间;所述电荷存储元件(CEA;CEB)位于沟道区域(R1;R2)上方,所述控制栅极元件(CG-A;CG-B)被布置在所述电荷存储元件(CEA;CEB)项部;第一晶体管(A)的一个扩散区域(A3)和第二晶体管(B)的一个扩散区域(A3)形成了公共的扩散区域(A3);第一晶体管(A)的另一个扩散区域(A1)被连接成与第一位线(BL-1)连接的第一扩散区域(A1),第二晶体管(B)的另一个扩散区域(A2)被连接成与第二位线(BL-2)连接的第二扩散区域(A2),并且公共扩散区域(A3)与感测线(BL-S)连接。
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