[发明专利]用于光刻衬底的温度控制方法有效
| 申请号： | 200780020946.2 | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101461031A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 贾森·普卢姆霍夫;拉里·瑞安;约翰·诺兰;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼 | 申请（专利权）人： | 奥立孔美国公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;G03F1/08 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 安 翔;林月俊 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于处理光刻衬底的方法，包括将光刻衬底放置在腔中的支撑构件上，其中，所述光刻衬底具有大约0摄氏度到大约50摄氏度的初始温度。将热传递流体引入到所述腔中以将所述光刻衬底冷却至低于大约0摄氏度到低于大约负40摄氏度的目标温度。在被冷却的光刻衬底的温度达到初始温度之前，对该被冷却的光刻衬底执行等离子体工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 衬底 温度 控制 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于处理光刻衬底的方法，包括：将所述光刻衬底放置在腔中的支撑构件上，所述光刻衬底具有初始温度；将热传递流体引入到所述腔中；通过所述热传递流体将所述光刻衬底冷却到目标温度；以及在所述被冷却的光刻衬底的温度达到所述初始温度之前，对所述被冷却的光刻衬底执行等离子体工艺。
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