[发明专利]X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法无效
| 申请号： | 200780020283.4 | 申请日： | 2007-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN101460098A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | H-I·马克;C·库尔策 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01N23/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王 英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 描述了一种用于校准X射线成像装置的校准设备(140)，所述设备(140)包括：接收单元(200)，其用于接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像；分析单元(201)，其用于分析所获取的图像以得到增益校正信息；以及校准单元(202)，其用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 用于 校准 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于校准X射线成像装置(100)的校准设备(140)，所述校准设备(140)包括：接收单元(200)，其用于接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像；分析单元(201)，其用于分析在所述参考条件下获取的所述图像以得到增益校正信息；校准单元(202)，其用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)。
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