[发明专利]X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法无效
| 申请号: | 200780020283.4 | 申请日: | 2007-05-22 |
| 公开(公告)号: | CN101460098A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
| 发明(设计)人: | H-I·马克;C·库尔策 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G01N23/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王 英 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 射线 成像 装置 用于 校准 设备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及用于校准X射线成像装置的校准设备。
而且,本发明涉及X射线成像装置。
此外,本发明涉及用于校准X射线成像装置的方法。
除此之外,本发明还涉及程序单元。
而且,本发明还涉及计算机可读介质。
背景技术
X射线成像在包括医疗应用、行李检测或材料科学的很多技术领域中很重要。
在过去的几年里,X射线行李检测已经从完全依赖于与操作员交互的简单X射线成像系统发展成为能够自动识别特定类型的材料并且在出现危险材料时引发警报的复杂自动系统。检测系统已经采用用于发射X射线的X射线辐射源,这些X射线透射通过接受检查的包裹到达探测器或者从接受检查的包裹散射到探测器。
校准X射线成像装置以提高精确性是有利的。
WO 2005/006257 A2公开了一种包括伪影消除装置的成像系统,其中将该伪影消除装置布置为校正三维重建体积中的环形伪影。该伪影消除装置包括第一级校正装置,将该第一校正装置布置为利用第一校正图像消除X射线成像装置的图像增强器的输出屏的结构噪声。该第一校正图像可以被预计算或存储在计算机的适当存储单元。首先用第一校正图像处理病人的原始图像。将如此获得的增益校正图像转送至图像变形校正工具,在该图像变形校正工具中预存储适当的扭曲校正(unwarping)函数。然后使所得到的增益校正的扭曲校正图像可用于第二级增益校正工具,在第二级增益校正工具中将第二校正图像应用于产生环形伪影基本减少的最后一组图像的图像。使该最后一组图像可用于图像重建工具,将该图像重建工具布置 为进一步处理最后一组图像,为了检测目的将其结果显示在计算机监视器上。
然而,WO 2005/00657 A2的系统在非预期情况下可能会经受不足的增益校正能力的影响。
发明内容
本发明的目标是能够对X射线装置进行适当校准。
为了实现上述既定目标,提供了根据独立权利要求的用于校准X射线成像装置的校准设备、X射线成像装置、用于校准X射线成像装置的方法、程序单元和计算机可读介质。
根据本发明的示例性实施方式,提供了用于校准X射线成像装置的校准设备,该设备包括:接收单元,其用于接收由X射线成像装置的探测单元在参考条件下获取的图像;分析单元,其用于分析所获取的图像以得到增益校正信息;以及校准单元,其用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准X射线成像装置。
根据本发明的另一示例性实施方式,提供了用于检测感兴趣对象的X射线成像装置,该X射线成像装置包括:X射线源,其用于发射X射线束到感兴趣对象;探测单元,其用于探测已传播通过感兴趣对象的X射线束;以及确定单元,其用于在考虑由具有上述特征的校准设备提供的校准信息的情况下确定关于感兴趣对象的结构信息。
根据本发明的又一示例性实施方式,提供了用于校准X射线成像装置的方法,该方法包括:接收由X射线成像装置的探测单元在参考条件下获取的图像;分析所获取的图像以得到增益校正信息;并且基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息,提供校准信息以校准X射线成像装置。
根据本发明的又一示例性实施方式,提供了计算机可读介质,其中存储了用于校准X射线成像装置的计算机程序,当处理器执行该计算机程序时,该计算机程序适合于控制或执行具有上述特征的方法。
根据本发明的又一示例性实施方式,提供了校准X射线成像装置的程序单元,当处理器执行该程序单元时,该程序单元适合于控制或执行具有上述特征的方法。
根据本发明实施方式执行的出于校准目的数据处理可通过以下方式实现:计算机程序,即通过软件;或使用一个或多个专用电子优化电路,即通过硬件;或以混合形式,即通过软件组件和硬件组件的方式。
根据示例性实施方式,可以以有效方式校准X射线成像装置。为此目的,可以应用比传统增益校正方案更不易失败的增益校正方案。具体地,当转动、旋转或移动基本二维的探测器时,可以有效抑制由于足跟效应补偿引起的伪影。
为此目的,在参考条件下接收图像是可能的,也就是说,在X射线束路径中没有感兴趣对象,整个探测器区域恒定暴露于X射线。换言之,参考测量可以在X射线源和探测器之间没有对象,或者在X射线源和探测器之间放置“中性”对象(例如均质材料制成的对象)。通过进行这样的测量,可以保证在有效探测区域内基本不会出现由在X射线束路径内的感兴趣对象引起的强度差。
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