[发明专利]X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法无效

专利信息
申请号: 200780020283.4 申请日: 2007-05-22
公开(公告)号: CN101460098A 公开(公告)日: 2009-06-17
发明(设计)人: H-I·马克;C·库尔策 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01N23/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王 英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 射线 成像 装置 用于 校准 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于校准X射线成像装置(100)的校准设备(140),所述校准设备(140)包括:

接收单元(200),其用于接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像;

分析单元(201),其用于分析在所述参考条件下获取的所述图像以得到增益校正信息;

校准单元(202),其用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)。

2.根据权利要求1所述的校准设备(140),

其中,所述参考条件包括在基本均匀的X射线暴露的条件下获取所述图像。

3.根据权利要求1所述的校准设备(140),

其中,所述分析单元(201)适于在考虑包括由所述探测单元(108)的硬件特性引起的增益校正、由旋转对称伪影引起的增益校正和由所述足跟效应引起的增益校正的组中的至少一个的情况下,得到所述增益校正信息。

4.根据权利要求1所述的校准设备(140),

其中,所述分析单元(201)适于通过对在所述参考条件下获取的所述图像执行理论模型的拟合,来得到所述增益校正信息。

5.根据权利要求1所述的校准设备(140),

其中,所述校准单元(202)适于基于在考虑包括由所述探测单元(108)的硬件特性引起的增益校正和由旋转对称伪影引起的增益校正的组中的至少一个的情况下所得到的增益校正信息,来提供所述校准信息。

6.根据权利要求1所述的校准设备(140),

其中,所述校准单元(202)适于通过计算增益校正因子来提供所述校准信息,所述增益校正因子是通过将表示由所述探测单元(108)的硬件特性引起的增益校正的增益校正因子和表示旋转对称伪影的增益校正因子相乘而得到的。

7.根据权利要求1所述的校准设备(140),

其中,所述校准单元(202)适于通过计算表示由所述探测单元(108)的硬件特性引起的增益校正的增益校正因子,来提供所述校准信息。

8.一种用于检测感兴趣对象(107)的X射线成像装置(100),所述X射线成像装置(100)包括:

X射线源(104),其用于对所述感兴趣对象(107)发射X射线束;

探测单元(108),其用于探测已传播通过所述感兴趣对象(107)的X射线束;

确定单元(118),其用于在考虑如权利要求1所述的校准设备(140)提供的校准信息的情况下,基于所探测到的X射线束确定关于所述感兴趣对象(107)的结构信息。

9.根据权利要求8所述的X射线成像装置(100),

其包括可旋转扫描架(101),其中,将所述X射线源(104)和所述探测单元(108)布置在所述扫描架(101)上。

10.根据权利要求8所述的X射线成像装置(100),

其适于作为计算机断层摄影装置。

11.根据权利要求8所述的X射线成像装置(100),

将其配置为包括以下的组中之一:行李检测装置、医疗应用装置、材料检测装置和材料科学分析装置。

12.根据权利要求8所述的X射线成像装置(100),

其中,所述探测单元(108)可相对于所述X射线源(104)移动。

13.根据权利要求8所述的X射线成像装置(140),

其中,所述探测单元(108)是矩形的并且其两侧的长度不同。

14.一种用于校准X射线成像装置(100)的方法,所述方法包括:

接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像;

分析在所述参考条件下获取的所述图像,以得到增益校正信息;

基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)。

15.一种用于校准X射线成像装置(100)的装置,其包括:

用于接收由所述X射线成像装置(100)的探测单元(108)在参考条件下获取的图像的模块;

用于分析在所述参考条件下获取的所述图像以得到增益校正信息的模块;

用于基于所得到的忽略足跟效应增益校正的增益校正信息来提供校准信息以便校准所述X射线成像装置(100)的模块。

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