[发明专利]带透明电极的玻璃基板及其制造方法有效
申请号: | 200780017459.0 | 申请日: | 2007-05-11 |
公开(公告)号: | CN101443858A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 岸政洋 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;C03C15/00;H01J9/02;H01J11/02;H01S3/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 范 征 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题是在通过激光图案化的方法制造带透明电极的玻璃基板时,提供玻璃基板表面无瑕疵、且形成的透明电极的电阻值未上升、表面的粗糙度也未提高的带透明电极的玻璃基板的制造方法。其解决手段是提供具备图案形成工序和刻蚀工序的带透明电极的玻璃基板的制造方法,该图案形成工序是在玻璃基板上形成透明导电膜后用激光形成图案,获得带薄膜图案的玻璃基板的工序;该刻蚀工序是采用刻蚀液对所述带薄膜图案的玻璃基板进行刻蚀处理的工序,该刻蚀液是溶解所述玻璃基板的刻蚀液,具备溶解所述玻璃基板的溶解速度比溶解所述透明导电膜的溶解速度快的性质。 | ||
搜索关键词: | 透明 电极 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1. 带透明电极的玻璃基板的制造方法,其特征在于,具备在形成有透明导电膜的玻璃基板上用激光形成图案,获得带薄膜图案的玻璃基板的图案形成工序;采用刻蚀液对所述带薄膜图案的玻璃基板进行刻蚀处理的刻蚀工序,该刻蚀液是溶解所述玻璃基板的刻蚀液,具备溶解所述玻璃基板的溶解速度比溶解所述透明导电膜的溶解速度快的性质。
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