[发明专利]带透明电极的玻璃基板及其制造方法

权利要求书

1.带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征在于，具备在形成有透明 导电膜的玻璃基板上用激光形成图案，获得带薄膜图案的玻璃基板的图案形成 工序；采用刻蚀液对所述带薄膜图案的玻璃基板进行刻蚀处理的刻蚀工序，该 刻蚀液是溶解所述玻璃基板的刻蚀液，具备溶解所述玻璃基板的溶解速度比溶 解所述透明导电膜的溶解速度快的性质，

所述激光图案化中采用的激光的能量密度为22mJ/mm²以下，

所述刻蚀液是以0.05nm/min以上的速度溶解玻璃基板，且以0.002nm/min 以下的速度溶解所用的导电膜的刻蚀液。

2.如权利要求1所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述刻蚀液含有选自NaOH、Na₂CO₃及氟化铵的至少1种。

3.如权利要求1或2所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征 在于，在进行所述激光图案化时，所述玻璃基板上的被重叠照射激光的接缝部 分的阶差为2nm以下。

4.如权利要求1或2所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征 在于，被除去了所述透明导电膜的部分在波长400nm～700nm的范围内具有 95％以上的透射率。

5.如权利要求3所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征在于， 被除去了所述透明导电膜的部分在波长400nm～700nm的范围内具有95％以上 的透射率。

6.如权利要求1、2或5所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特 征在于，所述透明导电膜含有50质量％以上的选自ITO、ATO及氧化锡的至 少1种。

7.如权利要求3所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述透明导电膜含有50质量％以上的选自ITO、ATO及氧化锡的至少1种。

8.如权利要求4所述的带透明电极的玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述透明导电膜含有50质量％以上的选自ITO、ATO及氧化锡的至少1种。

9.带透明电极的玻璃基板，其特征在于，由权利要求1～8中任一项所述 的带透明电极的玻璃基板的制造方法制得。

10.等离子显示器的前基板，其特征在于，采用权利要求9所述的带透明 电极的玻璃基板而形成。